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2011年12月

2011年12月19日 (月)

EcoDesign2011@京都 報告


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  昨今、環境問題は世界的な関心事であることは言を待たない。製品や社会システムの設計にあたっては環境調和が大前提になりつつあります。環境負荷低減と価値のイノベーションを車の両輪として持続可能社会をデザインすることがエコデザインのミッションです。


 ちなみに、本大会の副題は「持続可能社会に向けた価値イノベーションのためのデザイン」となっています。

 隔年に日本国内で開催され、今回は第7回目でした。東日本大震災と原発事故の影響で参加者の激減が予想されていましたが、大会直前までの関係者の努力で最終的には23カ国から約340人の参加があり、約230ものプリゼンテーションがあり、2011.11.30~12.2の3日間に及ぶ盛大な学会となりました。会場は京都駅近くの京都テルサでした。筆者はこの大会の実行委員でもありましたので、何も出来ませんでしたが、この本格的な国際学会の企画段階から本番実行までつぶさに見守ることができたことが大きな収穫でした。


 環境問題は先進国も途上国にも関心事であるため、国連総会かと思うほど参加国はバラエティー豊かでした。イランやネパールやインドネシア、それにブラジルなどからも参加がありました。特にイランからは数人もの参加者がありました。


 ここで扱われた学術分野は実に広範囲でした。基本的に5つのパラレルセッションと大講堂でのプレナリーセッションで構成されていました。1セッションは約80分で、それが40コマあります。


 其の全部を以下に示します。

1)   Social Infrastructures for Sustainability (1),(2)

2)   OS: Green Telecommunication

3)   Design for Sustainable Behavior (1),(2)

4)   Product Ecodesign Method

5)   Sustainable Manufacturing (1),(2),(3)

6)   Green Electronics (1),(2)

7)   Ecodesign Support Tool

8)   OS: Zero-CO2 Emissions Society

9)   OS: AIST 3R Technology R&D

10) OS: Envisioning and Designing Sustainable  Manufacturing Industry (1),(2)

11) Policy and Economic Incentives (1),(2)

12) PSS and Life Cycle Management (1),(2)

13) EOL Strategy

14) OS: Emerging Technology (1),(2),(3)

15) Remanufacturing

16) Sustainable Energy System (1),(2)

17) OS: Concept of Ecodesign Assessment Method

18) Workshop:Design for Remanufacture

19) OS: Energy Design (1),(2)

20) Green Business Strategy(1),(2)

21) OS: Stimulating Eco-Innovation by Promoting

       Meso-level Research Project (1),(2)

22) OS: Operations Management (1),(2)

23) Eco-Labeling and Carbon Footprint

24) Sustainability Assessment and LCA

25) Green Business Design


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 初日冒頭のプレナリーセッションは極めて重要な示唆に富むものでした。

産総研の矢部彰理事のPromotion of Energy Conservation and EcoDesign for Energy System と題した講演では我が国や世界がおかれた現状を分析し、エネルギー問題解決に高効率のスーパーヒートポンプに着目されていました。

今回特筆すべきセッションはOS: Emerging Technology (1),(2),(3)でした。他では聴くことのできない内容に興味がつきませんでした。

生物規範工学という分野は、自然界の生物の驚愕の巧みさに学ぼうとするもので、この分野は米国国防総省が支援するプログラムであることも納得がいくほどの内容でした。


 国際学会はさまざまありますが、EcoDesin2011は紛れもなく研究者自らが手作りで創りあげ、23カ国という途方もなく広い世界からいろんな分野の研究者が集い、熱のこもった議論が出来る不思議で魅力ある国際学会でした。次回は2年後になりますが、はじめて国外での開催とのことで、韓国Seoulだそうです。      (yt)

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2011年12月 9日 (金)

AVS2011参加報告

3 次元ナノ構造形成プロセス技術の開発の研究テーマである「中性粒子を用いた高精度プラズマエッチング」に関する研究成果を発表し、その評価を得るとともに広報を行い、併せて関連情報の収集を行うことを目的とし、国際会議AVS 58th INTERNATIONAL SYMPOSIUM & EXHIBITION」(AVS2011)に参加しました。本会議は、ナッシュビル市コンベンションセンター(テネシー州・米国)で20111030日(日)~2011114日(金)に開催されました。下の写真は、会場となったコンベンションセンターの外観(上)とロビーの様子(下)です。

  

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本会議は半導体製造技術、固体表面分析技術などの真空技術に関連した研究開発の世界的な学術会議です。取り扱う学術領域は広範囲で、先端表面加工、応用表面科学、バイオマテリアル、電子素材加工、磁気インターフェースとナノ構造、製造科学技術、MEMS/NEMS、ナノスケール科学技術、プラズマ科学技術、表面科学、薄膜、真空技術の12分野に及びます。本会議は約140件のセッションで構成され、約1300件の講演と250件の招待講演が行われました。会議には約3000人の参加者が訪れ、企業200社が展示を行いました。下の写真は、参加企業による展示会場の様子です。

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本会議には昨年度から中性粒子ビーム・低ダメージプロセス(Neutral Beam and Low Damage Processing)分野のセッションが設けられました。そのため中性粒子を用いた高精度プラズマエッチング技術に関する研究者が集まる世界的な会議の一つとなっています。同セッションの研究分野は日本の研究者が先駆しており、昨年度と同様に今年度第58回年会の同セッションの講演も日本の研究者によって全て占められ、同分野における日本の研究開発力の高さが際立っていました。

同セッションはこの分野で先駆的に活躍し、昨年度第57回の同年会にてPlasma Prizeを受賞した東北大学寒川教授による基調講演「Plasma Prize Lecture - Super-low Damage Top-down Processing for Future Nanoscale Devices」で開始され、中性粒子ビームによる超微細なナノスケール加工技術の未来について講演されました。この講演を聴講するため、講演会場の小室にはさまざまな国から参加した100名を超える研究者が集まり、立ち見が出る賑わいでした。

AVS2011において、BEANSプロジェクトからは以下の3件の口頭発表と1件のポスター発表が採択され、口頭発表についてはいずれも同セッションで行われました。

 

<口頭発表(3件)>

PS-ThM4: N.WATANABE, S.OHTSUKA, T.IWASAKI, K.ONO, Y.IRIYE, S.UEKI, O.NUKAGA, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA and S.SAMUKAWA, “Theoretical Analysis of Electron Transfer during the Process of Neutral Beam Generation”

PS-ThM5: S.OHTSUKA, N.WATANABE, T.IWASAKI, K.ONO, Y.IRIYE, S.UEKI, O.NUKAGA, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA and S.SAMUKAWA, “Energy and Angular Distribution Analysis for Neutral Beam and Application for Etching Simulation”

PS-ThM6: T.KUBOTA, A.WADA, S.OHTSUKA, K.ONO, H.OHTAKE, S.UEKI, Y.NISHIMORI, G.HASHIGUCHI and S.SAMUKAWA, “High-Aspect-Ratio Silicon Etching using Large-Diameter Neutral Beam Source”

<ポスター発表(1件)>

PS-ThP16: Y.NISHIMORI, S.UEKI, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA, and G.HASHIGUCHI, “Qualitative Research on Low-Damage Neutral Beam Etching Effect of Mechanical Properties”

次回のAVS 59th International Symposium & ExhibitionAVS2012は、20121028()112日(水)に,テンパ市コンベンションセンター(フロリダ州・米国)で開催される予定です。

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