MEMSの波（ブログニュース）

 －　MNOIC実習セミナー　－
「ナノインプリント実習、MemsONEによる形状予測とサンプル作成、その形状評価」
【ＴＩＡ連携大学院サマー・オープン・フェスティバル２０１３】
主催：一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会　MNOIC事業
後援：独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センター
後援：つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点　運営最高会議

【概要】
　一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会では、MEMS・マイクロナノ領域における産業推進の一環として独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センターの研究施設を用いた研究支援を行うMNOIC事業を実施しています。その中で特に人材育成には力をいれ、これまでにUMEMSME・MNOICセミナーや装置セミナー、国際ワークショップ等を実施してまいりました。MNOIC事業も研究支援サービスを開始して２年が経過し、多数の装置を用いた研究支援が可能になって来ました。そこで昨年度からMNOICで利用可能な最先端装置を用いた実習形式の「MNOIC実習セミナー」を開催し、好評を得ました。今回はその第二弾として、最先端のナノインプリント装置を用いたMEMSの大面積微細３次元形状の構造作成と評価を行います。今回は、単にサンプルを試作するのみならず、統合化MEMS設計・シミュレーションツールである、MemsONEを用いて微細型部材への高分子材料の押し込みによる変形、応力分布のダイナミックス計算や、温度や圧力と言った基本パラメータの影響をシミュレーションします。その理解を基に幾つかのパラメータを変えて実際の大口径・高精度ナノインプリント装置を用いてサンプル作成を行い、表面形状評価を行って計算結果との比較や考察を行います。尚、この実習講座はTIA人材育成活動の一環として、「ＴＩＡ連携大学院サマー・オープン・フェスティバル２０１３」として実施予定です。このため学生の皆様は無料で参加できます。この機会に世界最先端の装置を体験して頂き、更に多数のユーザの皆様にMNOICを利用して頂くことに期待しております。

【日程】
2013年8月29日（ 木曜）13時20分開始、30日（金曜）16:30終了予定
【場所】
〒305-8564　茨城県つくば市並木1-2-1
産業技術総合研究所　東事業所：集積マイクロシステム研究センター内　NMEMSイノベーション棟
一般財団法人マイクロマシンセンター、MNOIC開発センター
http://mnoic.la.coocan.jp/access/index.html（MNOIC開発センター＠つくば）
【学習・実習内容】
●MemsONE（統合化MEMS設計・シミュレーションツール）の原理・利用方法を製造販売元の一つである、みずほ情報総研㈱から紹介
●MemsONEの基本的な使用方法の理解
●MemsONEを用いたナノインプリントシミュレーション、型押し込みの際の高分子材料の変形、応力のダイナミックスのシミュレーション、およびそれらの温度、圧力依存性の計算（時間がないので予め計算済）
●Obducat社製ナノインプリント装置の原理、装置の特徴や有効性に関して販売元であるアペックス社からご紹介
●ナノインプリント技術の最前線と、具体的な応用事例に関して産総研の研究者からの講演
●Obducat社製ナノインプリント装置の操作方法の実習（クリーンルームにて実施）
●Obducat社製ナノインプリント装置を用いた、8インチ金型(*1)による転写サンプルの作成実習
●光学式干渉計を用いた表面形状の計測
●MemsONEによるシミュレーション結果と、実測値の比較(*2)および考察
　(*1)装置の状況等によって小形金型になる可能性があります。
　(*2)条件や材料が異なるので傾向の比較となります。
【費用】研究支援料および資料代（ホテル代、昼食代は含みません）
●一般（企業等） 30,000円（消費税込）
●アカデミア（大学、公的研究機関） 15,000円（消費税込）
●学生  無料

【MNOIC実習セミナー費用の支払方法】
　お申込みの確認後、受付メールをお送りします。お申し込みのご住所に請求書と受講票をご郵送しますので、当日は、受講票をご持参ください。お振込みは９月３０日（月）までにお願いいたします。また、お振込み期限を過ぎる場合には、お振込み予定日をメールまたはFAXにてお知らせください。尚、MNOICの年間利用コースの利用法人は１法人につき1名が無料となります。
【申込方法、および申込み先】以下を記入の上、メールにてお申し込みください。
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 郵便番号：
 ご住所：
 法人名：
 ご所属：
 ご氏名：
 連絡先（電話）：
 メールアドレス：
 請求書の宛先・宛名（上記と異なる場合）：
 参加費区分（ご選択ください）：　一般　・　学生　・　MNOICの年間 利用コース法人
 その他、ご連絡内容：
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申込先：
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67　MBR99ビル 6F
TEL：03-5835-1870　FAX：03-5835-1876
email：t_mihara@mmc.or.jp
一般財団法人　マイクロマシンセンター
MEMS協議会事務局　MNOIC研究企画部
三原　孝士　宛
＜その他＞恐れ入りますが、宿泊場所等は各自でご予約ください。
【最小実施人数】
・３名
恐れ入りますが、申込者が2名以下の場合は実施を延期、或いは中止する場合がありますのでご容赦ください。また実習形式のため、先着順に10名に達した時点で締切とさせて頂きます。

【実習プログラム案】
２０１３年８月２９日（木曜）　　1日目
 13時20分集合（NMEMSイノベーション棟１F受付ロビー或いは、２F会議室）：入所方法、集合場所等は参加者に別途ご案内致します。
１）13:20-13:25 開催の挨拶（人材育成委員会・前田龍太郎委員長　　　　　　　　　　ご挨拶）
２）13:25-13:40  オリエンテーリングとMNOICの概要説明（担当　三原）
３）13:40-14:30  MemsONE（統合化MEMS設計・シミュレーションツール）の紹介　
　　　　　　　「どんなシステム、何が出来るの？どこが凄いの？」
　　　　　　　　　　　（みずほ情報総研　浅海氏)
４）14:40-17:30 MemsONEによるナノインプリント形状予測シミュレーション実習
　　　　　　　「温度、圧力を変えた場合の変形ダイナミックスの計算」
　　　　　　　　　　　（浅海氏、水津、三原）
７）17:30-18:30  簡単な懇親会（参加者＋関係者）
　　　　　　MemsONE* 正式名称：MEMS用設計・解析支援システム
 ２０１３年８月３０日（金曜）　　２日目
１）9:00 集合（NMEMSイノベーション棟２F会議室）
２）9:00-10:00  Obducat社製ナノインプリント装置の原理・装置の特徴や有効性　　　　（アペックス社　松本健様）
３）10:00-10:45  ナノインプリント技術の最前線と、具体的な応用事例
　　　　　 （産総研・集積マイクロシステム研究センター　廣島副センター長）
４）10:45-12:00  Obducat社製ナノインプリント装置の操作方法の実習　　　　　　　　　　　（上野）
５）13:00-14:30  ナノインプリント装置を用いた、8インチ金型による転写実習　　　　　　　　（上野）
６）14:30-15:20  光学式干渉計を用いた表面形状の計測（上野
７）15:30-16:00　 MemsONEによるシミュレーション結果と、実測値の比較および考察 　　　　　　　　　　　（上野、三原）
８）16:00-16:30  纏めと反省会（三原、上野、原田）
９）16:30　 終了予定

 参考情報
１． MemsONE（統合化MEMS設計・シミュレーションツール）の紹介
　ＭｅｍｓＯＮＥ( MEMS Open Network Engineering System of Design Tools ) は、効率的なＭＥＭＳの設計・開発をサポートするためのソフトウェアです。ＭｅｍｓＯＮＥは経済産業省／ＮＥＤＯ技術開発機構の委託を受けた「ＭＥＭＳ用設計・解析支援システム開発プロジェクト」により産学連携の研究コンソーシアム（９企業、１３大学、１研究機関、１団体）により、３年間を費やして開発され、その成果として２００７年から販売され、その後、年１回のペースで機能の改善強化版がリリースされてきています。皆様には本年７月にリリースされる予定の最新バージョン、６．０を使って頂きます。
　ＭｅｍｓＯＮＥは、最先端の習熟したＭＥＭＳ研究者・技術者に利用されるのみならず、初心者や経験の乏しい多分野の研究者・技術者であってもＭＥＭＳに関する高度な知見やデータをストレスなく利用することが可能なソフトウェアを目指して開発されました。
　MemsONEの詳細は
　http://www.mmc.or.jp/mems-one/
　を参照してください。

写真　MemsONEによるナノインプリント解析結果

２．Obducat社製ナノインプリント装置
・装置名：Eitre-8
・製造元：スウェーデン　Obducat社
・販売元：アペックス株式会社　営業部 営業技術課　URL :
　www.appex.co.jp
　　　　　Eitre-8の主な仕様
・最大型サイズ ：200mm□
・最大サンプルサイズ ： 200mm□
・インプリント方法 ：熱、および紫外線、併用可能
・最高加工精度 ：30nmのパターン
・最高サンプル温度 ：200℃
URL：www.obducat.com

写真　Obducat社製ナノインプリント装置

 ３．実習に使用するサンプル
（１）インプリント型
 ・大きさ： 8インチを予定
 ・ピッチ：　 5μmから20μm
 ・段差：  数百nmから約1μm
 ・型材料： IPS（型転写用フィルム）を介してシリコン型から転写
 （２）インプリント材料　 専用レジスト材料
 （３）インプリント方法　 熱アシストUVナノインプリント
 （４）評価方法　 干渉型表面形状評価装置"Contor-GX3"
 或いはZYGO（光学干渉式表面形状観察装置） （但し表面に金属薄膜をコーティング後、観察予定）
以上