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2013年7月

2013年7月19日 (金)

BEANSプロジェクトセミナー開催報告

 BEANSプロジェクトセミナーが、ナノ・マイクロビジネス展の中日74日(木)午後、東京ビッグサイト東2ホール内特設会場にて開催されました。

 異分野融合型次世代デバイス製造技術開発プロジェクト(BEANSプロジェクト)は、2008年度にスタートし、20133月をもって5年間の研究活動を終了しました。今回は、今後の研究開発成果の展開に向けた取り組みとして、これまでのプロジェクト活動の総括を含めて発表が行われ、200席の会場がほぼ満席の状態でプログラムが進行しました。

 セミナーのオープニングでは、来賓として、BEANSプロジェクトの事業委託元であった(独)新エネルギー・産業技術総合開発機構・久木田部長からご挨拶をいただきました。その中で、「研究開発プロジェクトは終了したらそれで終わりということではなく、その後の成果活用に向けた取組みが重要である」とのご指摘がありました。

 続いて、元BEANSプロジェクトリーダー・遊佐厚マイクロマシンセンター技術顧問よりBEANSプロジェクトを振り返って」と題して、プロジェクト全期間を振り返って研究開発活動の総括、代表的な取組み、さらにプロジェクト終了後の成果展開の期待を含めて説明が行われました。

 

 セッション1「BEANSプロジェクト成果報告」では、開発テーマごとに設けた4つのBEANSセンターの代表者から、研究成果について報告がありました。プロジェクトの5年間にプロセス、材料等の開発が進み、デバイスの試作・実証も行ってきたことから、内容の濃い報告内容となっていました。また、各テーマとも技術成果以外にも人材育成や人的ネットワーク構築も大きな成果であったなど、プロジェクトを通しての感想が述べられました。各報告タイトルと発表者は以下の通りです。

①ナノの合わせ技がもたらすMEMSプロセスの新地平(3D BEANS)

 東京大学 大学院工学系研究科 准教授 杉山 正和

 中性粒子ビームを用いた超低損傷ドライエッチングによるシリコン材料の3次元構造作成プロセス技術、フェムト秒レーザー照射による局所改質技術とウエットエッチングを組み合わせた非シリコン系の石英に対する高アスペクト流路形成等基盤技術などについて報告がなされました。

Life BEANSの拓く健康社会(Life BEANS

 テルモ株式会社 研究開発本部 高橋 正幸

 健康・医療分野で将来必要とされるデバイスとして、常時健康管理のための体内埋め込みデバイス、オンサイト予防・診断デバイス等が挙げられています。研究開発成果として「バイオ・ナノ界面融合プロセス技術」と「バイオ高次構造形成プロセス技術(埋め込み型血糖値センサー等)」について報告がなされました。

③有機分子のナノ構造・配向制御が創り出す次世代有機・熱電デバイス(Life BEANS九州)

 九州大学 学術研究推進支援機構 研究戦略企画室 シニアリサーチ・アドミニストレーター 安達 淳治

 高効率有機太陽電池や有機EL素子などの有機ナノ分子デバイスの研究基盤を創出するために、微細加工技術や有機分子の自己組織化現象を駆使し、ナノメートルオーダーで有機分子集合体構造を制御するプロセス技術を開発しました。

④メーター級大面積マイクロシステムを実現する集積化技術(Macro BEANS)

 ()産業技術総合研究所集積マイクロシステム研究センター 副センター長 伊藤 寿浩

 大面積デバイスの実現のため、非真空プロセスによるマイクロナノ構造を有する高品位機能膜の形成技術、製織技術を活用した機能性薄膜連続皮膜や連続微細加工等の製造技術について報告がなされました。MEMSセンサを織り込んだ布地の作製などに応用が期待されます。

BEANSプロジェクト成果の総括

 東京大学 生産技術研究所 教授 藤田 博之

 5年間のBEANSプロジェクトを振り返り、研究開発成果の総括と生み出された成果が今後各分野で活用されること、また育成された人材が各方面で活躍することについて期待が述べられました。

 

 

 セッション2BEANSプロジェクト成果の活用促進」では、BEANSプロジェクトの研究成果活用促進のための取組みについて2件の報告が行われました。

BEANS知識データベース

 みずほ情報総研 サイエンスソリューション部 チーフコンサルタント 新田仁

 BEANSの研究開発項目やこれに関する新たな知見(文献情報等)を系統的に蓄積してデータベース化し、BEANS技術を容易に閲覧・参照できるBEANS知識データベースについて報告が行われました。

BEANSプロジェクト成果(知財)のワンストップショッピング

 (一財)マイクロマシンセンター BEANS技術研究センター 阿出川俊一

 BEANSの成果である知財は100件を超えています。複雑な権利関係にあるBEANS知財のライセンス契約について一括して交渉が可能な「BEANSパテントショップ」について紹介されました。

 最後に、遊佐厚マイクロマシンセンター技術顧問より、閉会の挨拶として、これまでのプロジェクト活動に対するご支援への感謝の念と、研究成果及び知財の今後の活用促進に向けての期待を表しつつ、3時間に及ぶセミナーを盛況のうちに終了しました。

 本プロジェクトセミナーの発表資料は、マイクロマシンセンターHP内の次のページに順次掲載してまいります。

http://beans.la.coocan.jp/summary/activities/seminar2013/

 以上

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「社会課題対応センサーシステム先導研究」を受託

技術研究組合NMEMS技術研究機構(以下NMEMS組合と略す)は独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)が公募した「社会課題対応センサーシステム開発プロジェクト(〔4〕研究開発成果等の他分野での先導研究)」に対して、公募対象の①社会・産業インフラ分野、②農業分野、③健康医療分野の全分野に係る全体提案をしておりましたが、7月11日付けでNEDOから全分野で採択通知を受け、受託が決定しました。

社会・産業インフラの経年劣化に伴う老朽化問題や、震災等による突発的障害、農業・畜産のより安全安心で、TPP等自由貿易に対応してより競争力のある産業への脱皮、到来する少子高齢化社会における医療費高騰問題など課題3分野において社会課題が山積しています。
                  
これら社会課題は、対象が大規模であること及び自然、動植物、人間という複雑系を取り扱うため、その根本現象の把握は容易ではありません。現状の把握には、種々の必要情報の収集が必須ですが、現状は必要情報を取得するのに適したセンサがない、センサが高価、センサの管理に負荷がかかる等から距離的及び時間的に離散的な情報収集しかできていません。
                  
  そこで、NMEMS組合は種々の社会課題を解決するために、『対象を常時・継続的にモニタリングし、現象を把握し、管理者に最適な判断材料を提供することを可能とする』という統一的な視点から課題3分野全ての社会課題対応センサーシステムに係る先導研究として「社会課題対応常時・継続モニタリングシステム」を提案致しました(図1参照)。
                  

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図1 提案する社会課題対応常時・継続モニタリングシステム

 今回のNEDOからの受託を受け、NMEMS組合では図2に示しますセンサデバイス/システムメーカ及びユーザ機関を含んだ16企業、1独立行政法人、1一般財団法人の組合員で構成する先導研究センターを新たに設置して、他のユーザ機関や関係大学との緊密な連携を取りながら、キーとなるセンサの原理検証等を行い、世の中の役に立つ「社会課題対応常時・継続モニタリングシステム」実現を目指して研究開発を推進していきたいと存じます。先導研究期間は来年3月中旬までとなります。今後得られました成果に関しましては、適宜発表していきたいと存じますので、御期待下さい。


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図2 先導研究センター体制図

(青柳桂一@NMEMS技術研究機構)



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2013年7月17日 (水)

欧州Guardian Angelsプロジェクトとの国際ビジネス交流会の開催

MEMS協議会はMEMSおよびマイクロナノ産業領域における産官学連携のハブとして機能していると信じていますが、更に海外のアフィリエート、研究所や大学等の交流も盛んで国際ワークショップやセミナー等を開催しています。今回、7月3日に開催致しました、ナノマイクロビジネス展(7月3日から5日、東京ビッグサイト)の最大イベントである第19回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウムの基調講演者であり、欧州Guardian Angels(GA)プロジェクトのChair and CoordinatorであるスイスEPFLのAdrian Ionescu教授の来日に合わせ、また同席されたGAプロジェクトビジネス担当のKarin Jaymes様とのビジネス交流会を開催しましたので報告致します。場所は一般財団法人マイクロマシンセンター会議室、日時は7月8日(月)の午後でした。尚このイベントはMEMS協議会・国際交流事業の一環として、企画いたしました。また国際的な研究所(プロジェクト)と企業の連携を含めたビジネス交流の意味が強いと判断したため、今回はMEMS協議会の会員向けの交流会と致しました。

 

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写真1 Karin Jaymes様とAdrian Ionescu教授(右)

 

既に多くの方々が第19回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウムにて、欧州GAプロジェクトのご講演をお聞きになったとは思いますが、GAプロジェクトはスイスEPFLの主導する先導研究プロジェクトでエネルギーハーベストデバイスと超低消費電力デバイス、MEMSセンサー、ナノデバイスセンサー及びそのセンサーシステムを用いて、ゼロエネルギで見守りシステムを中心に、様々な応用に向けて実用化させようとするものです。ここで何故スイスのナノテク研究の総本山であるEPFLが主導するか?ですが、このプロジェクトのゼロエネルギ-動作を実現するために、様々な超低消費電力動作ナノデバイスの研究が含まれていることです。例えば、トンネルトランジスターやナノシリコンセンサー、CNTやグラフェンセンサー等です。(ご存知のように従来のMOSFETはどんなに微細にしても、そのOnOffを決める基本特性であるサブスレッシュホールド特性は、pnダイオード特性に依存しますが、トンネルFETは高濃度接合のトンネル電流特性を使うため僅かな電圧(電力)で動作します。またナノデバイスセンサーは同様に高感度であるために消費電力を低く抑えられるはずです。)

 

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写真2 交流会の様子

 

残念ながら提案のあったGAプロジェクトは、比較的単期間で実現できそうであるという理由や、必ずしも基礎研究ではないと言った理由から、欧州の10年・本格大型プロジェクトには採択されませんでした(採択2件に対して、最後の4件の候補提案まで残りましたが)が、今後ECや各国のプロジェクトへ提案、或いは企業との共同研究を希望されています。

今回のビジネス交流会では、欧州のGAプロジェクト、日本からはMEMS協議会、MNOICやGSNの概要を紹介しあい、その後双方のプロジェクトにおいて、費用負担の考え方、IPを含む成果の取り扱い、日本の企業が欧州のプロジェクトに参加する方法等が議論されました。(MEMS協議会 三原 孝士)

 

参考URL http://www.ga-project.eu/

 

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2013年7月 9日 (火)

MNOIC実習セミナー「ナノインプリント実習、MemsONEによる形状予測とサンプル作成、その形状評価」ご案内

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 - MNOIC実習セミナー -
「ナノインプリント実習、MemsONEによる形状予測とサンプル作成、その形状評価」
【TIA連携大学院サマー・オープン・フェスティバル2013】
主催:一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会 MNOIC事業
後援:独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センター
後援:つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点 運営最高会議

概要】
 一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会では、MEMS・マイクロナノ領域における産業推進の一環として独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センターの研究施設を用いた研究支援を行うMNOIC事業を実施しています。その中で特に人材育成には力をいれ、これまでにUMEMSME・MNOICセミナーや装置セミナー、国際ワークショップ等を実施してまいりました。MNOIC事業も研究支援サービスを開始して2年が経過し、多数の装置を用いた研究支援が可能になって来ました。そこで昨年度からMNOICで利用可能な最先端装置を用いた実習形式の「MNOIC実習セミナー」を開催し、好評を得ました。今回はその第二弾として、最先端のナノインプリント装置を用いたMEMSの大面積微細3次元形状の構造作成と評価を行います。今回は、単にサンプルを試作するのみならず、統合化MEMS設計・シミュレーションツールである、MemsONEを用いて微細型部材への高分子材料の押し込みによる変形、応力分布のダイナミックス計算や、温度や圧力と言った基本パラメータの影響をシミュレーションします。その理解を基に幾つかのパラメータを変えて実際の大口径・高精度ナノインプリント装置を用いてサンプル作成を行い、表面形状評価を行って計算結果との比較や考察を行います。尚、この実習講座はTIA人材育成活動の一環として、「TIA連携大学院サマー・オープン・フェスティバル2013」として実施予定です。このため学生の皆様は無料で参加できます。この機会に世界最先端の装置を体験して頂き、更に多数のユーザの皆様にMNOICを利用して頂くことに期待しております。

【日程】
2013年8月29日( 木曜)13時20分開始、30日(金曜)16:30終了予定
【場所】
〒305-8564 茨城県つくば市並木1-2-1
産業技術総合研究所 東事業所:集積マイクロシステム研究センター内 NMEMSイノベーション棟
一般財団法人マイクロマシンセンター、MNOIC開発センター
http://mnoic.la.coocan.jp/access/index.html(MNOIC開発センター@つくば)
【学習・実習内容】
●MemsONE(統合化MEMS設計・シミュレーションツール)の原理・利用方法を製造販売元の一つである、みずほ情報総研㈱から紹介
●MemsONEの基本的な使用方法の理解
●MemsONEを用いたナノインプリントシミュレーション、型押し込みの際の高分子材料の変形、応力のダイナミックスのシミュレーション、およびそれらの温度、圧力依存性の計算(時間がないので予め計算済)
●Obducat社製ナノインプリント装置の原理、装置の特徴や有効性に関して販売元であるアペックス社からご紹介
●ナノインプリント技術の最前線と、具体的な応用事例に関して産総研の研究者からの講演
●Obducat社製ナノインプリント装置の操作方法の実習(クリーンルームにて実施)
●Obducat社製ナノインプリント装置を用いた、8インチ金型(*1)による転写サンプルの作成実習
●光学式干渉計を用いた表面形状の計測
●MemsONEによるシミュレーション結果と、実測値の比較(*2)および考察
 (*1)装置の状況等によって小形金型になる可能性があります。
 (*2)条件や材料が異なるので傾向の比較となります。
【費用】研究支援料および資料代(ホテル代、昼食代は含みません)
●一般(企業等) 30,000円(消費税込)
●アカデミア(大学、公的研究機関) 15,000円(消費税込)
●学生  無料

【MNOIC実習セミナー費用の支払方法】
 お申込みの確認後、受付メールをお送りします。お申し込みのご住所に請求書と受講票をご郵送しますので、当日は、受講票をご持参ください。お振込みは9月30日(月)までにお願いいたします。また、お振込み期限を過ぎる場合には、お振込み予定日をメールまたはFAXにてお知らせください。尚、MNOICの年間利用コースの利用法人は1法人につき1名が無料となります。
【申込方法、および申込み先】以下を記入の上、メールにてお申し込みください。
****************************
 郵便番号:
 ご住所:
 法人名:
 ご所属:
 ご氏名:
 連絡先(電話):
 メールアドレス:
 請求書の宛先・宛名(上記と異なる場合):
 参加費区分(ご選択ください): 一般 ・ 学生 ・ MNOICの年間 利用コース法人
 その他、ご連絡内容:
***************************
申込先:
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67 MBR99ビル 6F
TEL:03-5835-1870 FAX:03-5835-1876
email:t_mihara@mmc.or.jp
一般財団法人 マイクロマシンセンター
MEMS協議会事務局 MNOIC研究企画部
三原 孝士 宛
<その他>恐れ入りますが、宿泊場所等は各自でご予約ください。
【最小実施人数】
・3名
恐れ入りますが、申込者が2名以下の場合は実施を延期、或いは中止する場合がありますのでご容赦ください。また実習形式のため、先着順に10名に達した時点で締切とさせて頂きます。

【実習プログラム案】
2013年8月29日(木曜)  1日目
 13時20分集合(NMEMSイノベーション棟1F受付ロビー或いは、2F会議室):入所方法、集合場所等は参加者に別途ご案内致します。
1)13:20-13:25 開催の挨拶(人材育成委員会・前田龍太郎委員長          ご挨拶)
2)13:25-13:40  オリエンテーリングとMNOICの概要説明(担当 三原)
3)13:40-14:30  MemsONE(統合化MEMS設計・シミュレーションツール)の紹介 
       「どんなシステム、何が出来るの?どこが凄いの?」
           (みずほ情報総研 浅海氏)
4)14:40-17:30 MemsONEによるナノインプリント形状予測シミュレーション実習
       「温度、圧力を変えた場合の変形ダイナミックスの計算」
           (浅海氏、水津、三原)
7)17:30-18:30  簡単な懇親会(参加者+関係者)
      MemsONE* 正式名称:MEMS用設計・解析支援システム
 2013年8月30日(金曜)  2日目
1)9:00 集合(NMEMSイノベーション棟2F会議室)
2)9:00-10:00  Obducat社製ナノインプリント装置の原理・装置の特徴や有効性    (アペックス社 松本健様)
3)10:00-10:45  ナノインプリント技術の最前線と、具体的な応用事例
      (産総研・集積マイクロシステム研究センター 廣島副センター長)
4)10:45-12:00  Obducat社製ナノインプリント装置の操作方法の実習           (上野)
5)13:00-14:30  ナノインプリント装置を用いた、8インチ金型による転写実習        (上野)
6)14:30-15:20  光学式干渉計を用いた表面形状の計測(上野
7)15:30-16:00  MemsONEによるシミュレーション結果と、実測値の比較および考察            (上野、三原)
8)16:00-16:30  纏めと反省会(三原、上野、原田)
9)16:30  終了予定

 参考情報
1. MemsONE(統合化MEMS設計・シミュレーションツール)の紹介
 MemsONE( MEMS Open Network Engineering System of Design Tools ) は、効率的なMEMSの設計・開発をサポートするためのソフトウェアです。MemsONEは経済産業省/NEDO技術開発機構の委託を受けた「MEMS用設計・解析支援システム開発プロジェクト」により産学連携の研究コンソーシアム(9企業、13大学、1研究機関、1団体)により、3年間を費やして開発され、その成果として2007年から販売され、その後、年1回のペースで機能の改善強化版がリリースされてきています。皆様には本年7月にリリースされる予定の最新バージョン、6.0を使って頂きます。
 MemsONEは、最先端の習熟したMEMS研究者・技術者に利用されるのみならず、初心者や経験の乏しい多分野の研究者・技術者であってもMEMSに関する高度な知見やデータをストレスなく利用することが可能なソフトウェアを目指して開発されました。
 MemsONEの詳細は
 http://www.mmc.or.jp/mems-one/
 を参照してください。

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写真 MemsONEによるナノインプリント解析結果

2.Obducat社製ナノインプリント装置
・装置名:Eitre-8
・製造元:スウェーデン Obducat社
・販売元:アペックス株式会社 営業部 営業技術課 URL :
 www.appex.co.jp
     Eitre-8の主な仕様
・最大型サイズ :200mm□
・最大サンプルサイズ : 200mm□
・インプリント方法 :熱、および紫外線、併用可能
・最高加工精度 :30nmのパターン
・最高サンプル温度 :200℃
URL:www.obducat.com

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写真 Obducat社製ナノインプリント装置

 3.実習に使用するサンプル
(1)インプリント型
 ・大きさ: 8インチを予定
 ・ピッチ:  5μmから20μm
 ・段差:  数百nmから約1μm
 ・型材料: IPS(型転写用フィルム)を介してシリコン型から転写
 (2)インプリント材料  専用レジスト材料
 (3)インプリント方法  熱アシストUVナノインプリント
 (4)評価方法  干渉型表面形状評価装置"Contor-GX3"
 或いはZYGO(光学干渉式表面形状観察装置) (但し表面に金属薄膜をコーティング後、観察予定)
以上

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2013年7月 5日 (金)

~ 2013年ナノマイクロビジネス展成功裡に閉幕 ~

 2013年ナノマイクロビジネス展の最終日である7月5日は「グリーンセンサ・ネットワーク(GSN)プロジェクトセミナー」が開催されました。 NEDO共同研究事業「社会課題対応センサーシステム開発プロジェクト」として平成23年度から4年間にわたり研究開発を行う本プロジェクトも3年目に入りました。 今回のセミナーはこれまでの2年間の成果が発表されましたが、会場には多くの聴講者にお出で頂き、立ち見が出るなど関心の高さが見て取れました。

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また、MMCブースでは、この7月1日から開始されました「Beansパテントショップ」コーナーに多くの方が来訪されていました。国プロジェクトのフォローアップでは極めて稀でかつアクティブな取り組みとして注目を頂いているBeansパテントショップですが、今回多くの関心のある企業の方々にお立ち寄り頂きました。
 そこでは、ライセンス付与を含めた知財活用方法などの質問や相談が多く寄せられていました。
 ご興味のある方はこちらをご参考にお願いします。
http://beans.la.coocan.jp/patent/index.html

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さて、来年の「ナノマイクロビジネス展」は平成26年4月23日~25日までパシフィコ横浜で開催されます。ますます内容を充実しての開催となる予定でございますので、ご出展またご来場方を、関係者一同願っております。
よろしくお願い致します。

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「グリーンセンサ・ネットワークシステム技術開発プロジェクト」
  技術研究組合 NMEMS技術研究機構関係者一同

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ご来場ありがとうございました。一般財団法人マイクロマシンセンター関係者一同、来年はパシフィコ横浜でお待ちしております。 

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2013年7月 4日 (木)

~ ナノ・マイクロビジネス展が2日目を迎え盛況 ~

7月4日(木)東京ビッグサイト東2ホールで開催中のナノ・マイクロビジネス展が2日目を迎え、多くの入場者で賑わいました。

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7月4日の午後には「BEANSプロジェクトセミナー」が開催されました。

 BEANSプロジェクトは2008年から2012年まで5年間にわたり研究開発が実施されました。このプロジェクトは、将来の革新的次世代デバイス(BEANS)の創出に必要な異分野融合コンセプトに基づいた基盤的プロセス技術群を開発し、プラットフォームの確立を目指しました。

セミナーではこの5年間の成果をわかりやすく紹介しました。
セミナー概要です。


Dscn2876_800                    開会挨拶(青柳専務理事)

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           来賓挨拶を頂いたNEDO 久木田技術推進開発部長さま

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               beansプロジェクトの総括を行う遊佐前PL

セッション1 BEANSプロジェクト成果報告
14:20

14:45
ナノの合わせ技がもたらすMEMSプロセスの新地平(3D BEANS)
東京大学 大学院工学系研究科 准教授 杉山 正和
中性粒子ビームを用いた超低損傷ドライエッチングによるシリコン材料の3次元構造作成プロセス技術、フェムト秒レーザー照射による局所改質技術とウエットエッチングを組み合わせた非シリコン系の石英に対する高アスペクト流路形成等基盤技術について報告
14:45

15:10
Life BEANSの拓く健康社会
テルモ株式会社 研究開発本部 高橋 正幸
健康・医療分野で将来必要とされるデバイスとして、常時健康管理のための体内埋め込みデバイス、オンサイト予防・診断デバイス等が挙げられている。研究開発成果として「バイオ・ナノ界面融合プロセス技術」と「バイオ高次構造形成プロセス技術(埋め込み型血糖値センサー等)」について報告
15:10

15:35
有機分子のナノ構造・配列制御が造り出す次世代有機・熱電デバイス(Life BEANS九州)
九州大学学術研究推進支援機構 研究戦略企画室 安達 淳治
高効率有機太陽電池や有機EL素子などの有機ナノ分子デバイスの研究基盤を送出するために、微細加工技術や有機分子の自己組織化現象を駆使し、ナノメートルオーダーで有機分子集合体構造を制御するプロセス技術を開発した。

15:35

16:00
メーター級大面積マイクロシステムを実現する集積化技術(Macro BEANS)
(独)産業技術総合研究所集積マイクロシステム研究センター 副研究センター長 伊藤 寿浩
大面積デバイスの実現のため、非真空プロセスによるマイクロナノ構造を有する高品位機能膜の形成技術、製織技術を活用した機能性薄膜連続皮膜や連続微細加工等の製造技術について報告

16:00

16:25
BEANSプロジェクト成果の総括
東京大学 生産技術研究所 教授 藤田 博之
5年間のBEANSプロジェクトを振り返り、その成果と今後の期待を報告

セッション2 BEANSプロジェクト成果の活用促進
16:25

16:45
BEANS知識データベース
みずほ情報総研(株) サイエンスソリューション部 新田 仁

BEANSの研究開発項目やこれに関する新たな知見(文献情報等)を系統的に蓄積してデータベース化し、BEANS技術について容易に閲覧・参照できるBEANS知識データベースについて報告する
16:45

16:55
BEANSプロジェクト成果(知財)のワンストップショッピング
マイクロマシンセンターBEANS技術研究センター 阿出川 俊一
BEANSの成果である知財は100を超える。複雑な権利関係にあるBEANS知財を一括して購入できるBEANSショップについて報告



なお、TBSテレビの取材を受け、ナノマイクロビジネス/ロボテック展が7月5日(金)6:20
テレビで紹介されました。内容は東京大学生研生田研究所とロボットです。

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2013年7月 3日 (水)

「ナノ・マイクロ ビジネス展」は本日初日を迎えました。

  世界最大規模のMEMS関連イベントである「ナノ・マイクロ ビジネス展(マイクロナノを改称)」は本日開会いたしました。
 本日から5日(金)まで、東京ビッグサイトで開催します。
 会場では、ナノ・マイクロ分野における微細加工技術、デバイス、ソリューションが集積する専門見本市として、未来ビジネスの核となる先端技術の紹介や、ナノ・マイクロ分野の産学連携の場を提供致します。
 会期中は、3日間で1万5千人を来場を目標に出展者一同頑張っておりますので、ぜひともご来場をお待ちしております。
 明日からの開催日程は以下をご参照ください。
 http://www.micromachine.jp/

 さて、本日の会場の様子です。

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開場当初の受付の様子です。

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会場内は盛況で来場者の熱気が感じられました。

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今仲NMEMS組合理事長挨拶(開会イベントである国際ナノテクシンポジウム)

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須藤経済産業省産業機械課長さまには公務多忙の中、来賓挨拶を頂きました。

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国際ナノテクシンポジウムの開場となった特設会場は、満員御礼状態で立ち見の方が多くみられました。


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2013年7月 1日 (月)

BEANSパテントショップを開設しました


 本日(7月1日)、BEANSパテントショップを開設しました。BEANSプロジェクトが生み出した110件の特許のワンストップライセンス業務を行います。MEMS、バイオ、ナノテクなどの異分野融合基盤技術のライセンス供与を受けることが出来ます。皆さまの新規事業の展開等にご活用下さい。

   

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 BEANSパテントショップの主な特長は以下の通りです。

BEANSパテントショップで特許ライセンス取得

 BEANSプロジェクト成果である特許等(公開前特許を含む)の利用を希望する方は、BEANSパテントショップ(ライセンス機関:BEANS技術研究センター)を通じて様々な特許のサブライセンス供与を受けることができます。



利用可能な110件のBEANS特許

 BEANSプロジェクトにおいては、最終的に110件の特許出願が行われました。年度別、研究開発項目別の出願状況は以下の通りです。これらの特許の権利者はプロジェクト参加企業等に分散していますが、BEANSパテントショップから一括して複数特許のサブライセンス供与を受けることができます。

  

ワンストップライセンス等、色々な利用上のメリット

 BEANSパテントショップをご利用の場合、ワンストップライセンスを始め色々なメリットがあります。 

 ①ワンストップライセンス
  個々の特許権者と複数のライセンス契約をする手間を省くことができます。

 ②バックグランドIPについても実施許諾
  実施ご希望のBEANS特許等の他に、BEANS特許等権利者が
  保有するBEANS特許等と利用関係にある特許(バックグランドIP)
  についても、特許等権利者との協議により、実施許諾します。

 ③実施料の優遇措置
  各種の実施料の優遇措置を用意しています。

   

 お問い合わせ 電話 03-5835-1870 
 
          担当者:阿出川(BEANS技術研究センター)まで
 BEANSパテントショップURL: http://beans.la.coocan.jp/patent/

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(参 考)

 本年3月のBEANSプロジェクトの終了を受け、当センターではBEANS技術研究センターを設置し、次のような様々なBEANSプロジェクト研究成果のフォローアップ・利活用・普及事業を推進しております。

        (投稿者 青柳桂一@一般財団法人マイクロマシンセンター)

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