MEMSの波（ブログニュース）

MNOIC実習セミナ　X-CTを用いたマイクロナノデバイスの３次元構造の計測・評価、および三次元データ再構成の実習」開催

主催：一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会　MNOIC事業
後援：独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センター

【概要】
一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会では、MEMS・マイクロナノ領域における産業推進の一環として独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センターの研究施設を用いた研究支援を行うMNOIC事業を実施しています。その中で特に人材育成には力をいれ、これまでにUMEMSME・MNOICセミナーや装置セミナー、国際ワークショップ等を実施してまいりました。MNOIC事業も支援サービスを開始して1年強を迎え、多数の装置を用いた研究支援が可能になって来ましたので、今年度からMNOICで利用可能な最先端装置を用いた「実習形式のセミナー」を開催することに致しました。今回はその第一弾として、MEMSの微細３次元内部構造を観察して、三次元データを取得可能なX線CT（コンピュータトモグラフィー）装置を用いた実習を計画致しました。この機会に世界最先端の装置を体験して頂き、更に多数のユーザの皆様にMNOICを利用して頂くことに期待しております。

【日程】
2013年1月22日（ 火曜）14時開始、23日（水曜）16:30終了予定
【場所】
〒305-8564　茨城県つくば市並木1-2-1
産業技術総合研究所　東事業所：集積マイクロシステム研究センター内　NMEMSイノベーション棟
一般財団法人マイクロマシンセンター、MNOIC開発センター
http://mnoic.la.coocan.jp/access/index.html（MNOIC開発センター＠つくば）
【学習・実習内容】
・X-CT（米国Xradia社産業用X線CT　“VersaXRM-500”）の原理・利用方法を販売元であるキヤノンマーケティングジャパン㈱からご紹介
・世界最先端の評価および三次元再構成による解析事例を東京大学・大竹准教授からご講演
・X-CTの操作方法の実習（クリーンルームにて実施）
・X-CTを用いたTSV（シリコン貫通配線基板）サンプルの計測実習
・測定データの解析、三次元データの再構成の実習（予め取得したデータを使った解析）
【費用】研究支援料および資料代（ホテル代、昼食代は含みません）
・一般（企業等） 30,000円（消費税込）
・アカデミア（大学、公的研究機関） 15,000円（消費税込）
・学生 10,000円（消費税込）
【MNOIC実習セミナー費用の支払方法】

お申込み確認後受付メールをお送りします。ご住所に請求書と受講票をご郵送しますので、当日は、受講票をご持参ください。お振込みは２月２８日までにお願いいたします。また、お振込み期限を過ぎる場合には、お振込み予定日をメールまたはFAXにてお知らせください。

【申込方法、および申込み先】以下を記入の上、メールにてお申し込みください。
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・ 郵便番号：
・ ご住所：
・ 法人名：
・ ご所属：
・ ご氏名：
・　　　　　　　連絡先（電話）：
・ メールアドレス：
・ 請求書の宛先・宛名（上記と異なる場合）：
・ その他、ご連絡内容：
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申込先：
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67　MBR99ビル 6F
TEL：03-5835-1870　FAX：03-5835-1873
email：t_mihara@mmc.or.jp
一般財団法人　マイクロマシンセンター
MEMS協議会事務局　MNOIC研究企画部
三原　孝士　宛
＜その他＞恐れ入りますが、宿泊場所等は各自でご予約ください。
【最小実施人数】
・1名

【実習プログラム】
２０１３年１月２２日（火曜）　　1日目
14時00分集合（開発センター会議室）：入所方法、集合場所等は別途ご案内致します。
１）14:00-14:10 開催の挨拶（人材育成委員会・前田龍太郎　委員長挨拶）
２）14:10-14:30 オリエンテーリングとMNOICの概要説明（担当　三原孝士）
３）14:30-15:30 X-CTの原理と装置の解説（キヤノンマーケティングジャパン㈱
青木 優　様）
４）15:30-16:30 X-CTを用いたMEMS構造解析の例（東京大学 工学系研究科 精密工学専攻
准教授　大竹豊　先生）
６）16:30-17:00 MNOICの見学（三原孝士）
７）17:00-18:00 簡単な懇親会（参加者＋関係者：ビールとおつまみ程度）

２０１３年１月２３日（水曜）　　２日目
１）9:00 集合（開発センター会議室）
２）9:00-10:00 装置実習の概要説明、サンプルの説明（上野昭久、三原孝士）
３）10:00-12:00 装置実習　装置説明　2D、3D測定実習。（上野昭久、三原孝士）
４）13:00-14:00 装置実習　再構成実習（上野昭久）
５）14:00-16:00 測定結果の解釈、データ解析（上野昭久、三原孝士）
６）16:00-16:30 纏めと反省会（三原孝士、上野昭久、原田武）
７）16:30　終了予定

【装置の概要】
・製造元：米国Xradia社産業用X線CT　“VersaXRM-500”
・販売元：キヤノンマーケティングジャパン株式会社　産業機器新規事業企画部ニュープロダクト推進課
VersaXRM-500の主な仕様（カタログから抜粋）
・X線源 ：タングステン／最大管電圧160kV
・検出器 ：2048×2048 TE冷却CCD
・測定視野 ：最大50mm×50mm
・最高測定分解能 ：≦ 0.7μm
・最大サンプルサイズ ：φ300mm　15kg
http://cweb.canon.jp/newsrelease/2011-05/pr-xrm500.html

（カタログからコピー）
【実習に使用するサンプル】
・貫通配線基板（TSV: Through Silicon Via）ウェハー
・Viaの穴径　約50マイクロメータ
・貫通穴の長さ（ウェハーの厚さ）　400マイクロメータ
・配線材料　銅

（担当　MEMS協議会　三原孝士）
以上