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2012年12月13日 (木)

MNOIC実習セミナ X-CTを用いたマイクロナノデバイスの3次元構造の計測・評価、および三次元データ再構成の実習」開催

MNOIC実習セミナ X-CTを用いたマイクロナノデバイスの3次元構造の計測・評価、および三次元データ再構成の実習」開催

主催:一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会 MNOIC事業
後援:独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センター

【概要】
一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会では、MEMS・マイクロナノ領域における産業推進の一環として独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センターの研究施設を用いた研究支援を行うMNOIC事業を実施しています。その中で特に人材育成には力をいれ、これまでにUMEMSME・MNOICセミナーや装置セミナー、国際ワークショップ等を実施してまいりました。MNOIC事業も支援サービスを開始して1年強を迎え、多数の装置を用いた研究支援が可能になって来ましたので、今年度からMNOICで利用可能な最先端装置を用いた「実習形式のセミナー」を開催することに致しました。今回はその第一弾として、MEMSの微細3次元内部構造を観察して、三次元データを取得可能なX線CT(コンピュータトモグラフィー)装置を用いた実習を計画致しました。この機会に世界最先端の装置を体験して頂き、更に多数のユーザの皆様にMNOICを利用して頂くことに期待しております。

【日程】
2013年1月22日( 火曜)14時開始、23日(水曜)16:30終了予定
【場所】
〒305-8564 茨城県つくば市並木1-2-1
産業技術総合研究所 東事業所:集積マイクロシステム研究センター内 NMEMSイノベーション棟
一般財団法人マイクロマシンセンター、MNOIC開発センター
http://mnoic.la.coocan.jp/access/index.html(MNOIC開発センター@つくば)
【学習・実習内容】
・X-CT(米国Xradia社産業用X線CT “VersaXRM-500”)の原理・利用方法を販売元であるキヤノンマーケティングジャパン㈱からご紹介
・世界最先端の評価および三次元再構成による解析事例を東京大学・大竹准教授からご講演
・X-CTの操作方法の実習(クリーンルームにて実施)
・X-CTを用いたTSV(シリコン貫通配線基板)サンプルの計測実習
・測定データの解析、三次元データの再構成の実習(予め取得したデータを使った解析)
【費用】研究支援料および資料代(ホテル代、昼食代は含みません)
・一般(企業等) 30,000円(消費税込)
・アカデミア(大学、公的研究機関) 15,000円(消費税込)
・学生 10,000円(消費税込)
【MNOIC実習セミナー費用の支払方法】

お申込み確認後受付メールをお送りします。ご住所に請求書と受講票をご郵送しますので、当日は、受講票をご持参ください。お振込みは2月28日までにお願いいたします。また、お振込み期限を過ぎる場合には、お振込み予定日をメールまたはFAXにてお知らせください。

【申込方法、および申込み先】以下を記入の上、メールにてお申し込みください。
**********************************************
・ 郵便番号:
・ ご住所:
・ 法人名:
・ ご所属:
・ ご氏名:
・       連絡先(電話):
・ メールアドレス:
・ 請求書の宛先・宛名(上記と異なる場合):
・ その他、ご連絡内容:
**********************************************
申込先:
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67 MBR99ビル 6F
TEL:03-5835-1870 FAX:03-5835-1873
email:t_mihara@mmc.or.jp
一般財団法人 マイクロマシンセンター
MEMS協議会事務局 MNOIC研究企画部
三原 孝士 宛
<その他>恐れ入りますが、宿泊場所等は各自でご予約ください。
【最小実施人数】
・1名

【実習プログラム】
2013年1月22日(火曜)  1日目
14時00分集合(開発センター会議室):入所方法、集合場所等は別途ご案内致します。
1)14:00-14:10 開催の挨拶(人材育成委員会・前田龍太郎 委員長挨拶)
2)14:10-14:30 オリエンテーリングとMNOICの概要説明(担当 三原孝士)
3)14:30-15:30 X-CTの原理と装置の解説(キヤノンマーケティングジャパン㈱
青木 優 様)
4)15:30-16:30 X-CTを用いたMEMS構造解析の例(東京大学 工学系研究科 精密工学専攻
准教授 大竹豊 先生)
6)16:30-17:00 MNOICの見学(三原孝士)
7)17:00-18:00 簡単な懇親会(参加者+関係者:ビールとおつまみ程度)

2013年1月23日(水曜)  2日目
1)9:00 集合(開発センター会議室)
2)9:00-10:00 装置実習の概要説明、サンプルの説明(上野昭久、三原孝士)
3)10:00-12:00 装置実習 装置説明 2D、3D測定実習。(上野昭久、三原孝士)
4)13:00-14:00 装置実習 再構成実習(上野昭久)
5)14:00-16:00 測定結果の解釈、データ解析(上野昭久、三原孝士)
6)16:00-16:30 纏めと反省会(三原孝士、上野昭久、原田武)
7)16:30 終了予定

【装置の概要】
・製造元:米国Xradia社産業用X線CT “VersaXRM-500”
・販売元:キヤノンマーケティングジャパン株式会社 産業機器新規事業企画部ニュープロダクト推進課
VersaXRM-500の主な仕様(カタログから抜粋)
・X線源 :タングステン/最大管電圧160kV
・検出器 :2048×2048 TE冷却CCD
・測定視野 :最大50mm×50mm
・最高測定分解能 :≦ 0.7μm
・最大サンプルサイズ :φ300mm 15kg
http://cweb.canon.jp/newsrelease/2011-05/pr-xrm500.html


Ms1
(カタログからコピー)
【実習に使用するサンプル】
・貫通配線基板(TSV: Through Silicon Via)ウェハー
・Viaの穴径 約50マイクロメータ
・貫通穴の長さ(ウェハーの厚さ) 400マイクロメータ
・配線材料 銅

(担当 MEMS協議会 三原孝士)
以上


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