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2012年9月13日 (木)

2年目を迎えたMNOICの最近の状況

2011年の4月に開設し、2011年9月からサービス開始、10月に最初のユーザにご利用頂き、順調にスタートしたMNOICも、今年の秋に実質的な2年目を迎えました。この機会に最近の状況を整理してご報告をしたいと思います。一言で言いますと、MNOICが研究支援可能な装置群が拡大して更に使いやすくなったのですが、幾つかの主要装置の故障や、その他対応の遅れから2012年度の初期は新規のお客様にご迷惑をかけ、ご利用が停滞したことです。それらの課題や、主要装置の整備も完了し、今後はユーザ満足度の高い研究支援ができるものと確信しています。また研究支援の活動ですが、一時期は特定の装置を使った研究支援は予約が困難なほどでした。課題として研究支援のご利用は、まだ特定の装置を使った場合に限定されていることです。MEMSデバイスの研究やプロセス開発にMNOICの研究支援を使って頂ければ、多くの装置を平準化してご利用頂けると思います。それにはMNOICの研究支援で得た成果をアピールする、即ち実績を出していくことが重要と考えています。このブログニュースでは最近のトピックスをご紹介します。
(1)広報活動とセミナー:
MNOICでは産業界で利用できる世界最先端の大型研究施設の存在を広く知って頂くための以下のような広報活動を行なって参りました。特にご紹介したいイベントを記載致します。
 2011年度はUMEMSME/MNOICセミナーとして、千葉工大・佐野先生をモデレータとした連続講座である「MOTセミナー」、MEMS産業化に熱心な板生先生、服部先生、藤本先生等による連続講座である、「新マーケットセミナー」を開催し、総計18回、のべ人数約450名の参加者を集めることができました。それぞれにセミナーには、産総研の研究者や、最先端装置を提供する企業からの装置技術の紹介など、密度の濃いセミナーとなりました。このセミナーは2011年7月7日に初回、2012年6月27日に最終回と、ほぼ1年間に渡って実施されました。
 MNOIC装置セミナー「ツール de MNOIC -先端NMEMS拠点見学と研究開発ツール紹介-」を2012年2月14日(火曜日)に産総研・東事業所NMEMSイノベーション棟の国際セミナー室にて開催致しました。このセミナーでは、MNOICが研究支援できる最先端の装置群の装置メーカの方々に、装置の先端性や利用方法をご紹介して頂くこと、また同様な装置紹介をポスターで紹介して頂いて、ユーザと装置メーカが個別に議論できたことです。 参加者は80名でした。
 2012年も世界最大規模のMEMS領域の展示会である、マイクロナノ2012の一般財団法人マイクロマシンセンターのブースにてMNOICの展示と、TIAシンポジウムやセミナーを開催しました。MNOICの展示では、MNOICの研究支援で利用可能な装置群のビデオや、実際にMNOICの研究支援で完成した8インチと12インチのウェハーを展示しました。この大口径のウェハー展示には多くの方々が立ち止まって興味を持って頂きました。また、TIAの後援で行なった3つのセミナー(海外アフィリエイトとの交流である国際ビジネスワークショップ、MNOICセミナー、MEMS協議会フォーラム)も沢山の方々にご参加頂きました。
(2)研究支援の対象となる新たな装置のご紹介
MNOICでは9月から以下の新規な装置を用いた研究支援を開始しました。どちらも大口径、大面積、世界最先端です。また何れの装置も産総研の研究者が最先端の研究開発に用いた実績の高い装置です。
 12インチ ウェハ常温接合装置
     ウェハ寸法:4、6、8、12インチ
     ウェハ/ウェハ常温接合(表面活性化接合)
     最大接合荷重:200kN、
     アライメント精度:±1µm
 大面積ナノインプリント装置
     基板寸法:最大200mm角、
     熱および光ナノインプリントによる微細パターン形成
     加熱温度:200℃、最大加圧力:5MPa

今後の予定ですが、2012年度から、UMEMSME/MNOICセミナーをMNOIC研究支援の将来ユーザを対象とした、実習スタイルの人材育成プログラムを考えています。またMNOIC研究支援の標準設計ツールである、MemsONEと加工・評価を組み合わせた実習セミナーも準備しています。また11月には、欧州オランダのハイテクキャンパスやホルストセンターの研究者との、第2回国際ビジネスワークショップも11月中旬に(11月15日を予定)開催予定です。MNOICのご利用と、関連イベントへのご参加をお待ちしています。(MEMS協議会 三原 孝士)

Mi1
写真 1 12インチ ウェハ常温接合装置

Mi2
写真 2 大面積ナノインプリント装置

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