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2012年2月 9日 (木)

TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 ポスター報告のご案内

既にご案内しています2012年2月14日開催のTIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 におけるポスター報告のリストができましたのでご案内致します。皆様の積極的なご参加をお待ちしています。申し込みはこちらからお願い致します。申し込みは随時受け付けます。また当日受付も致しますので直接講演会場でお申し込みください。(MNOIC研究企画 三原 孝士)


TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」

「ツール de MNOIC -先端NMEMS拠点見学と研究開発ツール紹介-」


開催日:2012年2月14日(火曜日) 13時20分から17時10分
(但し、MNOIC装置見学会は11時20分から12時15分まで)
開催地:産総研・東事業所 NMEMSイノベーション棟(4G棟)
国際セミナー室(1F ロビー横)
連絡先およびアクセス:つくば開発センター
掲載:こちら
主催:一般財団法人マイクロマシンセンター MNOIC
共催:集積マイクロシステム研究センター(独立行政法人・産業技術総合研究所)
後 援:つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議

4. 第四部 ポスターセッションとMNOIC個別相談会 (16:10-17:1 0) 
・ 場所:国際セミナー室にて
 (MNOIC個別相談は4F MNOIC研究居室にて)
・世界最先端大口径MEMS製造装置群のポスターご紹介
・UMEMSME関連の最先端研究状況ポスターおよび関連技術展示
・MNOIC個別相談会(ご希望者は申し込み時、あるいは受付時にお申し込みください。):4F MNOIC研究居室にて)

以下、ポスター報告のリストです。

   装置名  会社名 展示概要
 1 ウェハ洗浄装置ほか ㈱日立ハイテクトレーディング ウェハのセミオートスピン洗浄・乾燥装置
 2 異方性エッチング装置ほか ㈱カナメックス ウェハ揺動による高均一性エッチング
 3 マスク露光装置、接合装置 イーヴィグループジャパン㈱ 高段差対応、両面アライメント、プロキシミティ露光
 4 マスクレス露光装置 東芝機械㈱ 大口径ウェハへのDMDによるレーザスキャン直描
 5 TEOS-CVD、TSVへの応用 サムコ㈱ 高アスペクトTSVに適した低温SiO2プラズマCVD成膜
 6 縦型炉 光洋サーモシステム㈱ カセットツーカセット25枚バッチ半量産装置
 7 ICPドライエッチング装置 パナソニック㈱ 低フットプリント、SiO2・メタルICPドライエッチング
 8 大口径Si深堀ドライエッチ装置 SPPテクノロジーズ㈱ 8インチ、12インチボッシュプロセスDeepRIE装置
 9  犠牲層ドライエッチ装置 キャノンマーケティングジャパン㈱ SiO2犠牲層リリースエッチング、撥水膜コーティング装置
産業用X線CT装置 キャノンマーケティングジャパン㈱ X線撮像による3D構造の非破壊評価装置
 10 光学検査装置 ㈱モリテックス ウェハレベル自動光学顕微鏡観察欠陥検査装置
 11 チップtoウェハ/ウェハ接合装置 ボンドテック㈱ プラズマクリーニングによるウェハレベル低温接合
 12 MEMSテスター エスティケイテクノロジー㈱ セミオートウェハレベルプローバテスター
 13 MemsONE みずほ情報総研㈱ 純国産のMEMS用設計解析支援システムソフトウェア
 14 ミニマルファブ (独)産業技術総合研究所 超小型ウェハによる枚葉処理半導体プロセス装置
 15 大面積電鋳金型技術 池上金型工業㈱ 12インチ対応金型電鋳プロセス技術
 16  検討中 ナノクラフトテクノロジーズ㈱  検討中
 17  検討中 マリモ電子工業㈱ 検討中
 18  検討中 ㈲VIYIA 検討中
 19  検討中 ㈱D-process 検討中

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