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2011年12月

2011年12月21日 (水)

第4回MemsONE技術交流会の開催

 第4回MemsONE技術交流会を12月16日(金)に開催致しました。 本技術交流会は導入ユーザ様や導入を検討中または興味をお持ちの方々を対象に、解析事例を中心とした内容で開催しています。
 MemsONEは平成20年度から本格的な販売・頒布活動を開始して、今年度が4年目となり、本技術交流会も年1回開催し、この度第4回を迎えることができました。 これもひとえにユーザ様および関係者の方々のご支援の賜物と深く感謝する次第です。今回は、基調講演1件、解析事例3件と、大学の先生方および学生さんにご講演をいただき、非常に充実した内容で満足するものでした。 開催状況は以下の通りで、今回の予稿集は来年2月頃にホームページで公開する予定です。

<<開催状況>>
 ・開催日時: 12月16日(金) 14:00~17:20~懇親会
 ・開催場所: MMCテクノサロン(秋葉原)
 ・参加対象: MemsONE導入ユーザ様、導入を検討されている方、
         および解析に興味をお持ちの方々が対象
 ・講演内容: 基調講演1件、解析事例3件、次期バージョンの機能紹介デモ1件
 ・参加者数: 22名 (関係者を含む)

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                  == ご講演風景 ==

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                   == 聴講風景 ==


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2011年12月20日 (火)

第22回先端技術交流会が開催される

 12月19日(月)に第22回先端技術交流会がマイクロマシンセンターで開催されました。
先端技術交流会は人材育成プログラムとして毎回最先端の研究をしておられる大学又は研究機関の講師の方をお招きして講演して頂くとともに、その分野に興味を持つ企業の参加者と講師の方々との交流を深めることを目的として開催しています。
 今回は「ナノフォトニックデバイスの最前線~メタマテリアルの応用」を全体のテーマとして、同分野で最先端の研究をしておられる理化学研究所基幹研究所の准主任研究員田中拓男様と東北大学大学院ナノメカニクス専攻の准教授金森義明様をお招きしてご講演をして頂きました。講演内容の概要は以下の通りです。

1.「ナノスケール超微細構造を応用した超小型・高機能光デバイスの研究」
  東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻 金森義明
 ここではシリコンマイクロ加工デバイスに対して光の波長以下のナノ周期構造を応用するとによって生まれる新機能デバイスについて講演して頂きました。
 最初にサブ波長格子による反射防止構造を持つ素子の紹介がありました。ナノスケールのコーン或いは直方体をエッチング加工により周期的に並べた構造を備え、ナノ構造体の形状、サイズを変えることによって反射防止特性を制御できることが示されました。
 また同様な構造によって光閉込め効果を利用して反射特性も制御できることからカラーフィルターへの応用も可能であることが示されました。
 エッチング加工によりこれらのナノ構造を形成した場合、表面の微小な凹凸によって光散乱損失が生じますが、水素中高温アニールによって表面粗さを約1/5に低減し、狙いの反射特性が得られることが示されました。
 シリコンマイクロ加工により導波路やグレーティング等の光部品をシリコン基板に形成することによって光通信デバイスへの応用が期待されている。これらの光部品にさらにMEMSの駆動機構を組合わせることによってさらなる高機能化が期待できる。例えばシリコンナノ格子と基板の間隔を可変にすることによって反射率を0~100%まで制御することが可能になる。またマッハツェンダー干渉計において片側の導波路を可動させて干渉特性を制御することが可能になる。また導波路に駆動機構を設けると、エバネッセント波を介して非接触で導波路間の光結合を制御することが可能になる。これらのデバイス化にはナノオーダ高精度な加工技術が必要であり、東北大学ではこれらのデバイスを設計通り駆動させることに成功したことを示されました。
 今後もシリコンナノフォトニクスとMEMS可動部を組み合わせることによって、新たな機能を備えるデバイスの開発を目指すとのことでした。

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2.「プラズモニック・メタマテリアル」
  (独)理化学研究所 田中メタマテリアル研究室 田中拓男
 ここでは電磁メタマテリアルの原理について光の基本的性質の説明から始めて、メタマテリアルの特徴まで素人でもわかるように、丁寧に説明して頂きました。特に金属リング共振器が基本構成要素になること、その設計指針についてわかりやすく説明して頂きました。光に対応したメタマテリアルを実現するためにはナノスケールの共振器を3次元に並べる必要があり、その作製方法が大きな課題となります。田中研究室では金属イオンを含む母材中にフェムト秒レーザを集光、吸収されて金属ナノ構造を作製する手法を示されました。特に吸収率の低い近赤外光を2光子吸収させて集光点だけで金属化させる方法は画期的でした。
 またメタマテリアルの応用として高い屈折率により極薄レンズができること、透明人間化させるためのマントを作ることが原理的に可能であることを紹介して頂きました。

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 参加者は26名で講演終了後活発な質疑応答がなされました。また全体の講演終了後、講師の方を囲んでの懇親会が開催され、聴講者の方々と交流が図られました。
参加者の皆様や関係者の方々のご協力により実りのある交流会ができました。来年度も開催する予定ですので、皆様の奮ってのご参加をお願い申し上げます。
(産業交流部 阪井 淳)

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2011年12月19日 (月)

Gデバイス@BEANS 事後評価分科会開催

去る1128日、本年3月に終了したH21年度二次補正NEDOプロジェクト「異分野融合型次世代デバイス開発/高機能センサネットシステムと低環境負荷型プロセスの開発」(H223月~H233月)に関するNEDO事後評価分科会が開催されました。開催場所は、センサネットや8インチMEMSラインを設置した主たる開発拠点:Gデバイスセンターのあった産総研つくば東事業所となりました。評価委員として分会長の帝京大学 大和田邦樹教授、兵庫県立大学 服部正教授、豊橋技科大 石田誠教授、九州大学 澤田廉士教授、早稲田大学 庄子習一教授、千葉工大 室英夫教授の6名のMEMS関連権威の方々が産総研つくば東事業所内MEMSイノベーション棟1F国際セミナー室に参集され、NEDO担当の技術開発推進部奥谷主査と実施者代表としてGデバイス研究体長だった産総研集積マイクロシステム研究センター前田センター長より開発マネジメント及び取り組み成果の概要、同じくGデバイスセンタセンター長だった産総研集積マイクロシステム研究センター伊藤グループ長より取り組み成果の詳細の報告説明を実施、それぞれ質疑を経て、実際のクリーンルーム等の現地調査を実施しました。朝10:30から夕刻16:30まで、活発な質疑、議論等が行われ、最後の評価委員の講評として、わずか1年間で最先端8インチMEMSラインの設置やセンサネット関連の数々の初動研究を実施、MNOICへのつなぎや各企業での実用化への取り組み含め、良好な評価を頂きました。さらにこの初動研究を次へつなげてほしいという課題提示もされました。

この事後評価の結果として、来年度1月にはNEDOでの評価が確定する予定です。それに伴いNEDOホームページで、評価資料や評価結果は公開される見込みです。

また、Gデバイスの活動内容はMMCホームページのGデバイス@BEANSアーカイブで公開中ですが、その成果の詳細についても近々掲載予定です。ぜひそちらもご訪問ください。

                    技術研究推進室 小池

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2011年12月15日 (木)

TIA-nano 公開シンポジウムの開催

TIA-nano 公開シンポジウムの開催

 2010年から開始され、日本が21世紀のナノテクノロジー産業の推進役として世界をリードすることを目的とした世界最先端ナノテクノロジー研究開発拠点である「つくばイノベーションアリーナ(TIA-nano)」の第2回公開シンポジウムが、11月25日、芝浦工業大学豊洲キャンパスにて開催されました。全体のプログラムは、
1) TIA活動全体報告 岸輝雄 (TIA-nano運営最高会議 議長)、
2) TIA-nano推進協議会報告 、
3) ナノエレクトロニクスWG報告、
4) パワーエレクトロニクスWG報告、
5) N-MEMS WG報告、
6) ナノグリーンWG報告、
7) カーボンナノチューブ・ナノ材料安全評価 WG報告、
8) 「イノベーションの創出に向けて」中村道治(TIA-nano運営会議 議長/科学技術振興機構 理事長)、
9) ポスターセッション
と今回は、各WGの報告に加えて、TIA-nano推進協議会の活動報告が新たに加わりました。このTIA-nano推進協議会は、一般社団法人 ナノテクノロジービジネス推進協議会 (http://www.nbci.jp/)が事務局になって、世界最先端ナノテクノロジー研究開発拠点であるつくばTIA-nanoと、産業界との連携を強化するために2011年5月25日に発足された組織で、一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会、BEANS研究所、更に技術研究組合NMEMS技術研究機構を含む9団体を中心に構成されています。この公開シンポジウムの中で、N-MEMS WGでは青柳専務が座長として~N-MEMSイノベーション戦略~社会課題解決型研究と量産試作/少量生産への挑戦~ とのWGテーマの下で「社会の課題解決に貢献するN-MEMS」 を前田龍太郎 ((独)産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター長) 、「少量生産可能な世界最先端MEMS施設がついに日本でも -MNOIC : MicroNano Open Innovation Center-」 を今仲行一 (MNOIC 所長)から報告があり、沢山の質問が出される盛況ぶりでした。またTIA-NMEMS WGとして5枚のポスター報告を行い、研究者や公開シンポジウムの来訪者との意見交換を行うことが出来ました。ナノエレクトロニクス、パワーエレクトロニクスやカーボンナノチューブとMEMSとの組み合わせで新規な機能を発現することが可能になります。その意味で、ナノテクノロジービジネス推進協議会を含めてTIA全体の交流が今後重要になると感じました。(MEMS協議会&MNOIC研究企画部 三原 孝士)

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写真 1 中村道治(TIA-nano運営会議 議長)の講演

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写真 2 N-MEMS WGのポスター

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写真 3 ポスター報告会&懇親会での挨拶


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MEMSものづくりネットワーク研究会でのMNOICの紹介

MEMSものづくりネットワーク研究会でのMNOICの紹介

 全国の工業試験場や産業技術総合研究所のマイクロ、MEMS領域の研究者が奈良に集合して研究発表や研究会を行う会合に、MNOICのご紹介をさせて頂きました。この研究会は産業技術連携推進会議製造プロセス部会プロセス(加工)技術分科会、平成22年度金型・材料研究会(第51回)、MEMSものづくりネットワーク研究会(第7回)の合同研究会で、年に1回開催されているもので、金型・材料研究会の高橋会長、MEMSものづくりネットワーク研究会の前田会長のご紹介で実現したものです。この研究会は毎年、奈良で開催され、今年も平成23年11月24日に猿沢荘(奈良市)で開催されました。今年は全国の工業試験場や産業技術総合研究所から7件の研究発表があり、MNOICは「TIA-NMEMS8/12インチラインの産業界への活用―MNOICの活動」と称してご紹介させて頂きました。当日は関連の研究者約40名の他に、奈良を含む関西の企業からの出席者も20名程度ありました。何人かの方と意見交換をさせて頂きましたが、特に高橋(集積マイクロシステム研究センター)副センター長の研究領域であり、地方の研究所でも精力的に進めてられている「ナノインプリントの金型の作成にMNOICが使える可能性がある」とのコメントを頂きました。(MEM協議会&MNOIC研究企画部 三原 孝士)

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写真1 会場となった「猿沢荘」裏の猿沢池と興福寺五重の塔

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写真2 研究会の状況

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2011年12月 8日 (木)

MNOICで研究員・研究補助員を募集しています

 マイクロマシンセンターMNOIC(マイクロナノ・オープン・イノベーション・センター)では研究員および研究補助員を募集しています。
 詳細はhttp://mnoic.la.coocan.jp/docs/kyujin_mnoic_201112.pdfを参照ください

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