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2011年9月

2011年9月29日 (木)

第17回 MEMS講習会「高度防災・防犯システムに向けたマイクロデバイスの課題と最新技術」ご案内

第17回 MEMS講習会「高度防災・防犯システムに向けたマイクロデバイスの課題と最新技術」の開催概要が決まりましたのでご案内致します。

http://www.mmc.or.jp/fsic/seminar/koshu-17/koshu-17.html

 半導体微細加工技術を応用して、微小な電気要素と機械要素を1つのデバイスに組み込んだMEMSは、モバイル機器ゲーム、自動車、ロボット、医療・バイオ、環境・エネルギーなど多様な分野におけるキーデバイスとしてさらなる市場拡大が期待されています。一般財団法人マイクロマシンセンターでは、MEMS産業の裾野を広げ、その発展を促進するために、マイクロナノイノベータ人材育成プログラム事業の一環としてMEMS講習会を開催しています。
 本年度は、
地震、台風等による災害防止や防犯が強く叫ばれている昨今の問題に対応して「高度防災・防犯システムに向けたマイクロデバイスの課題と最新技術」をテーマに、システム側のマイクロデバイスへのニーズからデバイスの最新技術まで双方の最新動向を広く紹介する場として本講習会を開催致します。

◆ 日時: 20111025日() 13:0017:40  講演会、 174518:45 懇親会
◆ 場所: 東京大学本郷キャンパス 山上会館 2F会議室(講演会)、B1F食堂(懇親会)
1300~ 主催者挨拶 (財)マイクロマシンセンター 専務理事  青柳 桂一
1305~ 基調講演「MEMS研究開発最新動向と将来展望」  東京大学 生産技術研究所 教授 藤田 博之
防災・防犯システム及びセンサデバイスニーズー
13:50~ 特別講演セキュリティシステムとセンサの現状と将来  元立教大学教授、元セコム顧問 佐取  朗
1420~  災害ロボットの開発動向とRTの将来展望  東京大学 精密工学専攻 教授 淺間  一
1450~  地震観測の原理と観測機器の動向  東京大学 地震研究所 准教授 新谷 昌人 
1520~ 休憩  MEMS協議会ファンドリー委員企業パネル展示、技術相談   
防災・防犯関連最新センサデバイスの開発
1540~  「防災システムのためのテラヘルツイメージセンサの研究開発」  
         
(独)情報通信研究所 未来ICT研究所 副所長 寶迫  
1610~ 「構造ヘルスモニタリング用MEMS感振センサ 富士電機(株) 計測技術センター センター長 相馬伸一
1625~ 「MEMSマイクの開発と応用  オムロン(株) マイクロデバイス事業推進本部 藤岡 信嘉
MEMSファンドリー及びMNOIC紹介
1640~ 「大日本印刷のMEMSファンドリー  大日本印刷(株) MEMSセンター 副センター長 鈴木 浩助
1655~ 「アルバックのMEMSファンドリー  (株)アルバック 技術開発部 前平  謙
1710~ 「MEMS設計シミュレーションMemsONE  (株)数理システム 水田 千益
1725~ 「MEMS技術開発をサポートするマイクロナノオープンイノベーションセンター(MNOIC (財)マイクロマシンセンター 三原 孝士     
1745 懇親会(~18:45

参加申込

下記申込欄をコピーして頂き、メール本文中に貼り付け、必要事項をご入力のうえ、ご送信下さい。又は下記申込欄を印刷して頂き、必要事項をご記入のうえ、FAXして頂いても結構です。 (受付後、登録通知メールを送付致します。)

E-mail: mems-ws@mmc.or.jp
FAX :  03-5835-1873
         (財)マイクロマシンセンター  MEMS講習会担当 (阪井、酒向)
申込み締め切り: 平成23年10月21日(金)

お申込は下記の申込欄のみをご送信下さい。

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                     参加申込欄 

第17回 MEMS講習会 「高度防災・防犯システムに向けたマイクロデバイスの課題と最新技術」
               <20111025日(火)

申込者氏名:
氏名フリガナ:
会社・団体名:
所属部署:
役職:
勤務先〒番号:
勤務先住所:
TEL:
Email:
参加費: いづれか該当するものを残してください。
①一般(10,000円)   ②協賛会員 8,000円    ③MEMS協議会メンバー(6,000円)

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2011年9月19日 (月)

韓国マイクロナノ展示会(NanoKorea2011)参加報告

 平成23年8月24日~26日に韓国ソウル近郊でマイクロナノに関する総合展示会(NanoKrea2011)が開催され、マイクロマシンセンターは展示ブースを設けて活動のPRを行いました。また同展示会への各機関の出展からMEMSに関連する情報収集を行いました。
Mmc

              マイクロマシンセンター 展示ブース

 展示規模は7月に東京ビッグサイトで開催されましたマイクロマシン展2011とほぼ同じ程度でした。展示内容は大きく分けると、MEMS、ナノ材料、レーザ加工、プリントプロセス機器から成り、それぞれの分野において、韓国の企業、研究機関を中心に日米欧の企業も出展していました。
 韓国の代表企業であるサムソン、LGも展示していましたが、マイクロデバイスに関してはサムソンがZnO圧電体を織物に形成したエナジハーベストウェアの技術展示をしていたのが注目された程度でした。

Sumsang

                SAMSUNGの展示ブース

 全体を通して韓国企業によるMEMSの展示は少なかったですが、韓国国立研究機関のMEMS試作設備及びデバイス開発の充実ぶりが目立っていました。例えばNational NanoFab Center(NNFC)の設備は8インチのCMOS、MEMSラインを基本とし、同じフロアにナノバイオゾーン、ナノマテリアルゾーンが隣接し、それらを融合させたプロセスの開発もできるように設計されていました。ここには韓国の企業、大学から研究者が集まっており、展示ブースでは赤外線センサ等共同研究の成果が展示されていました。
 他に韓国の国公立の多く研究機関から展示がありましたが、設備や研究内容で重複しているところも見られました。今後これらの研究機関のサポートのもとで、韓国企業がMEMSデバイス事業へ進出してくることが予測されます。
 海外からもいくつかの企業、研究機関の展示がありました。技術的に高いポテンシャルを示したところでは、既によく知られていますがSTMicroelectronics、台湾ETRYの展示が注目されました。
 以下に注目された機関の展示内容を示します。
◆National Nanofab Center (NNFC)
CMOS、MEMS試作ラインを有し、企業の技術開発をサポート
・試作設備技術:8インチ180nmCMOSライン、TSMC180nmCMOSとコンパチ性確保
 8インチMEMSライン、Bio、Nano New Material作製設備
・MEMSマイクロボロメータ型赤外線画像センサ:企業との共同研究、
 マイクロボロメータ材料にアモルファスSiを採用、
 赤外線画像素子とCMOS素子を3次元積層化

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              NNFC:CMOS一体赤外線画像センサ

◆Korea Institute of Science and Technology (KIST)
韓国の中心的な国立総合研究機関でシリコンマイクロ加工を含むマイクロナノデバイス試作ラインを保有する開発センターを持つ。
◆Korea Advanced Institute of Science and Technology(KAIST)
国立総合科学技術大学院でMEMS分野の研究も盛ん
・RF-MEMS他試作品を展示
◆Korea Advanced Nano Fab Center (KANC)
マイクロナノデバイスを開発、2軸Gセンサ、ウェハレベルパッケージを展示
◆Korea Institute of Material Science
ナノマテリアルの国立研究機関、CNT、メタルナノ粒子等の材料開発から太陽電池、熱電発電素子の開発を展示
他、国立研究機関としてKorea Institute of Material Science(KIMS)、Center for Nanostructured Materials Technology(CNMT)等多くの研究機関がマイクロデバイスを展示していた。

◆STMicroelectronics
マイクロデバイスの重点分野としてモバイルデバイス、モーションセンサ、ヘルスケアデバイスをあげ、それぞれの分野の代表的なデバイスを展示。
STはモーションセンサ関連で世界トップを走り、将来展開としてヘルスケア用デバイスにも注力、新規デバイスとしてMEMSインシュリンポンプ、コンタクトレンズ型眼圧センサを展示
・MEMSインシュリンポンプ:糖尿病管理、ドラッグデリバリに応用
 ピエゾでダイアフラムを駆動する形式
 デバイスサイズ:22.5x14.5x3.8mm
 1回の駆動で200nlを排出
Ponpjpg

                            MEMSインシュリンポンプ

・コンタクトレンズ型眼圧センサ:コンタクトレンズ表面に歪ゲージ、回路を形成
1◆Electronics and Telecomunications Research Institute(ETRY:台湾)
台湾の電子デバイスの代表的な研究機関、MEMSガスセンサ、熱電素子、色素増感太陽電池、フィルム型1次、2次電池等を展示
・Siナノワイヤ熱電デバイス:これまでの熱電材料はBi-Te系が代表だが、Siプロセスで作製可能なSiナノワイヤ型を開発
Sinanowaire

              Siナノワイヤ熱電変換素子




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2011年9月16日 (金)

ナノコリア2011 第9回 国際ナノテクシンポジウムへの参加

ナノコリア2011 第9回 国際ナノテクシンポジウムへの参加
MMC 三原 孝士

 2011年8月24日から3日間開催されたナノコリア展示会に参加・出展しました。この展示会そのものは日本の総合イベント「マイクロナノ」と同程度ですが、同じ期日で国際ナノテクシンポジウムが同時開催されます。KINTEXと呼ばれる会場の1Fの大ホールが展示会場で、国際シンポジウムは2Fおよび3Fの17部屋を使って、最大8つの並列セッションを含む学術発表とポスター報告会が行われました。このシンポジウムはナノテク分野では韓国最大の学術的なシンポジウムで、優秀な報告には表彰もされるものです。口頭発表は約110、ポスターは300程度でした。分類としてはナノデバイス、ナノ加工、CNTやグラフェン、センサー&MEMS、ナノバイオ、ナノ材料、エネルギー、モデル&計算等で日本では複数の学会で行われている研究領域ですが、ナノに関わる全てが出揃っている感じがします。キーノート講演はSK Innovation Global Tech.のKim先生と、2010年ノーベル物理学受賞のManchester(UK)大からNovoselov先生でした。また全ての発表、ポスターも英語で開催されたため、海外からの参加者にも開かれた学会です。
 この国際シンポジウムに合わせて、「Business Program」と称する産業界メンバーに向けた発表(今回で4回目)もありました。この中で「Microtechworld Business Conference」を中心に聞きました。このテーマは「Energy Harvesting, Bio MEMS, RF MEMS」とMEMS関連でのトピックスを反映しているもので、興味ある発表が全世界から集められています。DALSA(Canada)からのMiQro Innovation Centerの紹介や、STMicroelectronics(Italy)から眼圧センサーやインショリン注射器等のバイオ・健康領域を含む将来のMEMS開発、オムロン(日本)からRF-MEMSスイッチ、また韓国からの講演はセンサーと集積化するCMOSを使った集積化MEMSや圧電素子の利用に注力している感がありました。尚、この産業界に向けたConferenceは学術発表とは別に13セッションが開催され、約100の発表がありました。この中には国家プロジェクトの発表が16発表、セラミック関連、MEMS、レーザ関連、特許や技術移転、更にカナダナノテクセミナー、日本ナノテクセミナーと工夫を凝らしたイベントが盛りだくさんであって、今後のマイクロナノの開催企画にも参考になりました。
 シンポジウム&展示会の初日に開催されるOpeningやテープカット、更にレセプション等も、主催者側から沢山の来賓の方々が挨拶されること、特に夕刻のNetworkレセプションではステージに歌手やダンサーの余興があることから、このようなイベントに様々な団体から資金援助があると考えられます。来賓の挨拶の中に「ナノテク活動では世界で第4位の位置にある」とのことでメディア取材も絶えることなく、韓国では大変盛り上がっている様子でした。尚、2012年のナノコリアは8月29日から31日、KINTEXでの開催とのことです。

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写真1 会場となったKINTEX

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写真2 Opening Addressの様子

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写真3 華やかなNetwork Reception

 

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韓国の研究機関NNFCおよびKRISS訪問

韓国の研究機関NNFCおよびKRISS訪問
MMC 三原 孝士

 ナノコリア2011の出展・参加に合わせて、韓国の研究所2施設を訪問しました。今回の出張の目的の一つでもあった、韓国のIMECとの呼ばれるナノテク&MEMSの研究拠点であるNNFC(National NanoFab Center)と KRISS(韓国標準科学研究院)です。両施設とも日本の「つくば市」にあたる「研究学園都市、太田(テジョンDaejeon)市」にあります。デジョン市はソウルの南約130kmに位置し、高速道路が発達している韓国では車での移動が一般的です。しかしソウルから市街に出るために(ソウルを東西に流れる漢江を渡るのに常時大渋滞しているために)車で1時間、デジョン市までは計3時間近くかかりました。
 NNFCですが、Korea Ministry of Science and Technologyが2002年から2010年まで165億円を投じて拠点化され、Korea Institute of Science and Technology Evaluation Policy (KISTEP)によって管理運営させています。現在の所長はマイクロナノ2011・国際シンポジウムで講演を頂いたKwyro Lee氏です。施設は韓国のIMECと呼ばれるように、立派な建物に、8インチナノエレクトロニクス(CMOS)ライン、4から6(一部8)インチMEMS施設、バイオ関連、ナノテク関連施設と何でも揃っているのが特長です。また重点研究領域は(1)0.18um-RF-CMOS、(2)CMOS/MEMS集積化、(3)bio-MEMS、(4)ナノ材料となっています。またMEMSに限定するなら、装置の数は51、オペレーター10人を含む20人のスタッフ、装置の投資は40億円程度です。MNOIC比較すると、イオン注入装置を含む最先端CMOSラインがあって集積化MEMSを容易に開発できること、またスタッフの充実です。また運営経費の約70%は政府からの支援で残りの30%も競争的資金(国家プロジェクト)から来ているとのことです。更に驚きは同規模のMEMSを含むマイクロ・ナノ研究拠点が韓国内に他に2カ所(何れも国家予算)あるとのこと、韓国の当該分野への強化ぶりが伺えました。
一方のKRISSですが、今回の研究所訪問の世話をして頂いた旧知の趙博士の本拠地であることから訪問しましたが、KRISSが研究所で最も歴史がある施設で標準や計測と言った要素技術を元に、多数の韓国発製品や企業を輩出している点で韓国の科学技術国家を支えていることを知りました。KRISSは1975年に研究学園都市・Daejeon市に最初に設立された歴史のある研究所で500m2、年間研究費90億円、研究員数が約400人の規模です。またKRISSの内部にもクリーンルームやMEMSの施設があって、赤外線センサーやバイオ関連MEMSを研究しています。この趙博士の専門分野は金属や無機ナノ材料の研究ですが、最近では電子顕微鏡の高性能化やイオンビーム研究をされ、韓国のSEMやTEMの実用化・産業化に多大の貢献があります。

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写真1 NNFCの全景(NNFC紹介資料から)

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写真2 NNFC訪問時、左から2番目がLee所長、右端が趙博士

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写真3 KRISSの全景

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写真4 KRISSの展示室で見つけたバイオロボット

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2011年9月15日 (木)

MEMS関連JISが制定される

 MEMS関連のJISは既に3規格が制定されていますが、4番目の規格JIS C 5630-6が8月22日に制定されました。「マイクロマシン及びMEMS-第6部:薄膜材料の軸荷重疲労試験方法」というタイトルで、薄膜材料の軸荷重引張-引張力疲労試験について規定しています。
 内容は、適用範囲、引用規格、用語及び定義、試験片、試験方法及び試験機、耐久性(試験の終了)、試験報告書となっています。試験方法及び試験機については、試験片のつかみ方、静的引張強さ試験、負荷方法、試験の繰返し速度、試験環境の制御について規定しています。
 この規格は我が国がIECに提案し国際規格として2009年に成立したIEC62047-6をJIS化したものです。内容は一致規格として同一ですので、4番目のJISですがIECの番号に合わせて第6部としています。
 このJIS規格は日本規格協会より購入できます。

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2011年9月 8日 (木)

「NMEMSイノベーション棟開所式」の開催

「NMEMSイノベーション棟開所式」の開催
MMC 三原 孝士

  このたび、TIA-NMEMS拠点作りの推進に大きく係わっている以下の4機関が、産総研つくば東事業所内の4G棟(旧くらしとJISセンター棟)にまとめて入居することとなり、棟の名前も「NMEMSイノベーション棟」に改称することとなりました。

1)独立行政法人産業技術総合研究所
         集積マイクロシステム研究センター(UMEMSME)
2)一般財団法人マイクロマシンセンター 
         マイクロナノ・オープンイノベーションセンター(MNOIC)
3)技術研究組合NMEMS技術研究機構 つくば研究センター
4)技術研究組合BEANS研究所マクロ BEANSセンター
 
  このように、NMEMS分野の研究開発に関する組織が結集する「NMEMSイノベーション棟」は、今後のTIA-NMEMS拠点整備に重要な役割を担っていくものとして大きく期待されます。この拠点整備を記念して8月30日(火)に「NMEMSイノベーション棟開所式」を開催いたしました。この式典には経済産業省、NEDOのご来賓の方々と、110名の(関係者を含む)参加者がありました。 
  今回のイベントは1)特別講演、2)パネル討論会、3)見学会の三部構成です。特別講演として東大・生産技術研究所の藤田教授による 「世界におけるMEMS最新技術動向と課題、TIA-NMEMS研究拠点への期待」と題する講演がありました。またパネル討論会は、アカデミアから東大・藤田教授、京都大学・小寺教授、産業界からオリンパス(株)・唐木執行役員、MNOIC・今仲所長の4名のパネラーと、モデレータとして集積マイクロシステム研究センター・前田センター長によってMEMS研究拠点を如何に使うか?産業界にどのように役に立てるか?特にMNOICへの期待は何か?と言った議論がありました。特に小寺先生は京都大学・ナノハブの設立者でもあり、共通の課題やそれを解決するための多々の工夫に関する報告がありました。見学会としてはNMEMSイノベーション棟の見学と、NMEMS関連研究施設の見学が開催され、70名程度の方々にご見学頂きました。このNMEMSイノベーション棟は、総勢で80人~90人規模の研究者を中心とした研究拠点であり、益々の発展が期待されます。

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写真1 新規に製作した表札、4つの組織名を併記しました。

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写真2 開所式の全体像、約120名収容可能な「国際セミナー室」を整備しました。

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写真3 東大・藤田教授による特別講演

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写真4 パネル討論会の様子

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写真5 NMEMSイノベーション棟の見学会の様子

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2011年9月 7日 (水)

長野県・上田市 AREC講演会にてMNOICのご紹介の機会を得ました。

長野県・上田市 AREC講演会にてMNOICのご紹介の機会を得ました。
MMC 三原 孝士

マイクロナノ・オープンイノベーションセンター(MNOIC)もホームページも充実し、受付を開始しました。MNOICはTIA(つくばイノベーションアリーナ)の集積マイクロシステム研究センター(前田センター長)の最先端8インチMEMS研究施設を産業界で利用するために開設されました。これは研究・製造装置を持たない企業、ベンチャーであってもMEMSへの参入が可能となる、画期的な(産業戦略的な)イノベーションと言えます。マイクロナノ2011等で積極的にアピールして参りましたが、全国の多くの方々に知って貰う必要があると実感していました。丁度、懇意にして頂いていた信州大学・繊維学部の先生やコーディネータの方にご紹介を頂いて、長野県・上田地区でMNOICのご紹介を頂く機会を得ました。
 ARECは長野県、上田地区で信州大学・繊維学部を中心とした法人会員180社で支える産官学連携組織で、技術・シーズのマッチングや交流会を主として行っており、特にARECの講演会は2011年8月で126回を誇る程の熱心さです。この度、8月18日に開催されたAREC講演会(「精密機械・産業用ロボット分野」の講演会)に集積マイクロシステム研究センター・前田センター長と一緒に参画させて頂き、TIA-NMEMSとMNOICのご紹介をさせて頂きました。
 長野県・上田地区は機械加工、精密部品、電子部品、電子機器、各種センサー、メカトロ関連で、世界で活躍されている顕著な技術を持った企業が多数あります。何度も書きますがMNOICは高額な研究・製造装置を持たない企業、ベンチャーであってもMEMSへの参入が可能です。特に従来のメカトロ部品をMEMS化する場合には顕著な効果があります。もし皆様でこのような要望をお持ちでしたら、是非声をかけて頂ければと思います。
 ご参考:AREC http://arecplaza.jp/
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写真 AREC講演会にて、前田センター長からTIA-NMEMS および MNOICのご紹介

 

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