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2010年2月

2010年2月17日 (水)

つくばイノベーションアリーナ 第5回ワークショップが開催されました(2月15,16日)

つくばイノベーションアリーナ(TIA)を真に効果的なものとするために何が必要か議論するための第5回ワークショップが、215日、16日、産総研(AIST)つくば中央、共用講堂にて開催されました。今回は海外のナノテクに関連する著名な研究開発拠点から幹部層を招き、マネジメントやネットワーキングに関する講演やパネルディスカッションが行われました。

海外からは、IMEC(ベルギー)、MINATEC-Leti(フランス)、BSAC(米国)、NNIN(米国)、Fraunhofer(独)、CINT(米国)、CNSE(米国)などから、日本からはAISTを中心に、NIMS(物材研)、東大、東北大、JSTINPITなどからの講演者でした。

セッションのテーマとしては、1日目は、

  マネジメント:経営的な観点、ミッション、組織など

  ネットワーキング:現時点では各国でのネットワーキング、さらに今後の国際的なネットワーキングの価値やネックなど

  IPマネジメント:Pre-Competitiveな領域のIPから産業側が求めるCompetitiveIPへのシフトについて。

2日目のテーマは、

  ナノエレ

  NMEMS

  Nano-Characterization

でした。

研究開発拠点のマネジメントに関して印象的だった3つのポイントは、

  リスクの高い研究を継続するためには、安定的な公的(政府からの)助成が不可欠であること

  産業側の求めるMust-Have Technologyの開発をテーマとして設定すること

  有効なロードマップを設定してその実現を図ること。

また、TIAOpen Innovationを実現するには日本特有の文化からどれだけ離れられるかがキーであろうとの指摘もありました。

 IPマネジメントのセッションにおいては、次のような機関による差がありました。

IMECではできるだけ非独占的なライセンスにすべくパートナー(顧客)と交渉する。コンソーシアムに早く参加すればIPライセンスに関するBackground Feeは低額になる。逆にあとから参加しようとすると高くなる。すなわち、早くコンソーシアムに参加するIncentiveになる。

LETIは、逆に製品分野は限定するが、独占ライセンスも厭わない。

CNSEは契約ごとに異なる。ケースバイケースである。

日本のINPIT(工業所有権情報・研修館)からは、国プロにおいてプロジェクトリーダーがIP戦略を策定すべきではあるが、実際は難しく、そこでINPITからIP専門家を派遣してIP戦略の策定に協力する仕組みを検討中であるとの報告がされました。

 ナノエレのセッションでは、次のような指摘が印象的でした。

・なぜ産業側が参加するのか、その意義を明確にすべきであること。

・プロジェクトに進捗や成果に関するReview Processが重要であること。その結果としてプロジェクトをストップするのか、継続させるのか、変更させるのか、判断する。日本においてはこのプロセスが貧弱ではないかとの指摘です。

・競合同士がひとつのプロジェクトに参加することもあろうが、ひとつの企業なり研究所で最高の頭脳全てを抱えることができるわけではなく、競争を越えて英知を結集することの方がメリットがある。特にナノエレのように行き詰まり感のあるテーマについてはこのことが重要と感じられました。

 NMEMSのセッションでは、冒頭にTIA-NMEMSの概要紹介がModeratorの前田氏からあった後、東北大江刺教授から様々なデバイス開発例と共用施設の紹介がありました。また、BSACLETIからもどのようにしてテーマ遂行を効果的にするか、成果を大きくするか、すなわち継続的なファンドを得るか、などの経験、考え方が紹介されました。ディスカッションの時間では、韓国ナノファブセンターの紹介、シンガポールにおける関連活動の紹介がされました。また、MMC 片白から、産業側からTIA-NMEMSをどのように形成しようとしているか、簡単な紹介をしました。

 今回は、すべてのセッションが英語による講演と討議でしたので、多少、ハードルの高いものではありました。しかし、海外からの講演者は非常に率直に自分たちの経験やアドバイスを語ってくれた印象が強く、狙い通りの意義深いワークショップであったと思います。(MEMS協議会事務局)

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2010年2月16日 (火)

広報誌「マイクロナノ」2010年1月号発行

広報誌「マイクロナノ」2010年1月号(No.70)をマイクロマシンセンターの広報誌ページに掲載しました。

下記より直接アクセスすることもできます。是非ご覧ください。
→ http://mmc.la.coocan.jp/info/magazine/70j/micro70.html

================ ≪目次≫ ================

・年頭所感

【財団法人マイクロマシンセンター事業の動き】

・調査研究・標準化事業の動き
・MEMS協議会(MEMS Industry Forum)の動き
・MEMSシステム開発センターの動き
・普及広報等事業の動き

【技術研究組合BEANS研究所事業の動き】
・「BEANSプロジェクト」成果・トピックス
・BEANSプロジェクトのセンター紹介(後篇)

・賛助会員・組合員等の活動紹介:東芝機械株式会社

    普及促進部@マイクロマシンセンター

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2010年2月15日 (月)

第14回MEMS講習会の開催報告(2010年2月5日)

 マイクロマシンセンター・ファンドリーサービス産業委員会(委員長:オムロン(株)佐藤文彦氏)主催の第14回MEMS講習会「MEMSの新技術(設計・加工・評価)と応用製品」を、2月5日(金)に、兵庫県神戸市の兵庫県民会館で、参加者総勢37名で開催致しました。

 今回は、MEMSデバイス製造技術にスポットを当て、設計・加工技術だけでなく、製品開発において重要な第3のキーテクノロジーである評価技術も含めたプログラムを編成しました。さらに、(財)新産業創造研究機構の御協賛により、兵庫地区近県のMEMS関連企業の御講演と技術相談会でのカタログ展示をいただき、盛り沢山のプログラムで実施致しました。

プログラム詳細はここから

 冒頭、青柳専務御挨拶に続いて、基調講演として杉山先生からMEMS応用システム・デバイスの最新動向についてお話しいただきました。そのあと、服部先生からテーマ講演「MEMSデバイスのマイクロナノ成形加工技術」があり、MEMS技術応用製品市場の隆盛には製造プロセスの大幅なコストダウンと人材育成が必要と指摘され、そのキーテクノロジーとして微細金型による成型加工技術についてご説明いただきました。

 テーマ講演のあと、ファンドリーサービス産業委員会プレゼンテーションに続いて、ゲスト講演として、シリコン深堀りドライエッチング技術を主力とした加工装置・ファンドリーサービスと、MEMSデバイス評価技術に関する御講演がありました。特に、MEMSデバイス評価技術は、半導体デバイス評価技術に比べて評価手法の確立・標準化が遅れている分野ですが、MEMS応用製品開発においては最も重要ともいえる要素技術であり、試作デバイスの評価結果を設計にフィードバックすることによって信頼性に優れたMEMSデバイス・製品が実現されることになります。微細なデバイス周辺の局所的な環境を高精度に制御する技術・装置とMEMS特有のプロセス診断・故障モード解析技術・サービスに関して貴重な御講演をいただきました。

 講習会のあとの技術相談会では、ゲスト出展者も含めた熱心な技術交流が行われ、会場を移しての懇談会では、ファンドリーサービス産業委員会委員、講師の方々、及び参加者の皆様との間で、くつろいだ雰囲気のなか、活発な情報交換が行われ、有益な講習会になりました。本講習会を盛り上げていただいたご関係各位に厚く御礼申し上げます。

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  講演会場風景     技術相談会風景     懇談会風景

普及促進部@マイクロマシンセンター

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2010年2月 5日 (金)

平成21年度第2回MEMS協議会メンバー交流会が開催されました!

MEMS協議会の諸活動の理解を深め、協議会メンバーの相互交流の場である今年度の第2回のMEMS協議会メンバー交流会が、平成22年1月29日午後5時から霞ヶ関の商工会館で開催されました。
当日は、今年度の第2回MEMS協議会推進委員会が、MEMS協議会推進委員会委員と行政側である経済産業省、新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)とのMEMS関連産業の発展に向けての意見交換会(MEMS懇話会)が開催されました。

Img_3435_12 この推進委員会に引続いて開催されたメンバー交流会には、企業メンバーの方々の他、MEMS協議会推進委員、経済産業省製造産業局産業機械課及び産業技術環境局研究開発課、NEDOの関係の方々、MEMS協議会の海外アフィリエート機関の方々など、65名がご出席されました。
 交流会は、MEMS協議会の久間和生副会長(三菱電機㈱上席常務執行役)から主催者挨拶、経済産業省製造産業局産業機械課の米村猛課長及びNEDOの古谷毅理事から来賓ご挨拶をいただきました。
その後、東京大学大学院情報理工学系研究科長の下山勲教授から乾杯の音頭をいただいてから、参加者による交流が行なわれました。

交流会では、経済産業省が進めているMEMSに関する知と経験の集積拠点の形成に関する状況や、BEANS(異分野融合型次世代デバイス製造技術開発プロジェクト)、低環境負荷を意識したセンサーネットワークや製造プロセスの開発などの今後取り組むべ研究開発や、ビジネスマッチングなど、今後のMEMS産業発展に向けた話題について、和やかなうちにも真剣な意見・情報交歓が行なわれました。Img_3438_7
また、今回のメンバー交流会には、MEMS協議会の海外アフィリエート機関であるCEA-Leti、フラウンホーファー日本代表部、台湾工業技術研究院東京事務所の方々も参加されました。
MEMS協議会企業メンバーの方々にとって、企業の枠を超えた交流はもちろんのこと、日頃機会が少ない経済産業省、NEDOの行政側の方々、海外の研究機関の方と膝を付き合わせた意見・情報交換を行なうことができ、参加者からは有意義な交流会であったとのご好評をいただきました。
次回のMEMS協議会メンバー交流会は、平成22年5月下旬に開催を予定です。

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