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2010年1月12日 (火)

第4回つくばイノベーションワークショップ開催さる(1月8-9日)

つくばにナノテク研究開発拠点を形成しようとする構想についての意見交換会、つくばイノベーションワークショップの第4回が経産省主宰で、2010189日、産総研つくばにて開催されました。

今回は6つのコア領域および3つのコアインフラの各々の進捗状況が紹介され、深夜および休日にもかかわらず、100人を越える参加者によって活発な意見交換がされました。着実に進む拠点整備状況、ベースとなる研究開発テーマ、スキームなど全体を把握することができました。

次回、第5回は、215日、16日で、世界のナノテク拠点の代表の参画を得て、拠点や研究のマネージメント、国内外ネットワーキングのあり方、コンソーシアムにおける知財の取り扱いなどについてオープンに意見交換することが計画されています。

以下、第4回の概要を記します。

冒頭、経産省産業技術環境局、土井研究開発課長から趣旨説明があり、紆余曲折はあったものの、国家プロジェクトとして必要な予算措置が取られている状況が紹介されました。続いて、同、西本審議官から、国際競争の概観と融合・集中連携拠点の重要性、我が国におけるナノテク拠点形成の重要性などが述べられました。日立製作所 中村取締役から、ナノテク拠点の意義と重要性を踏まえた上で、今後の議論のベースとなる6つの指摘がされました。すなわち、①アウトカムの姿 明確化 ②産業競争力強化のシナリオ ③研究と事業サイドの対話 ④設計ツール、アーキテクチャなどシステム的アプローチの重要性 ⑤産学官連携 ⑥アジアにおけるR&Dハブ

6つのコア領域とは、パワーエレクトロニクス(SiCを基板とするデバイス開発)、ナノエレクトロニクス(CMOS+新材料をベースに新原理デバイス発掘と集積化検証)、N-MEMS(多品種少量分野におけるアプリ開拓と大口径化)、カーボンナノチューブ(CNT量産実証と多様な用途開発)、ナノグリーン、ナノ安全、です。

各々、現状を踏まえて、産業競争力強化のためのスキーム、有効なテーマ設定をしようとしていることが分かりました。特に、SiCCNTについては、拠点形成を最大限活かしたスキームで、狙いとそこに至るシナリオが明確という印象でした。ナノエレにおいては、行き詰まり感のある現状から、どのようにブレークスルーを確保するか、feasibility判断が困難な中、幅広い議論がされています。これらの議論を参考にN-MEMSもさらに議論を深めるべきと思います。企業の参画を求めていく際に、売りが何か、競争力強化に至るシナリオ、など、結果の見えないものに資金は出せない、との見方に対する反論、すなわちN-MEMSの価値を見えるようにすること、が重要と思われます。

全体としては今後、IPや海外企業の扱いなども議論の対象になるとの指摘もされていました。

次回からは議論を一般にもオープンにするとの方針のようです。ご興味のある皆様の活発な意見表明をお願いいたします。(MEMS協議会事務局)

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